[發(fā)明專利]鍍膜料架及具有該鍍膜料架的鍍膜設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010510037.0 | 申請日: | 2010-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN102443766A | 公開(公告)日: | 2012-05-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王仲培 | 申請(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/22 | 分類號: | C23C14/22;C23C14/50;C23C14/35 |
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| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鍍膜 具有 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其設(shè)計(jì)一種可提高鍍膜生產(chǎn)率的鍍膜料架及具有該鍍膜料架的鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著各種電子產(chǎn)品的普及應(yīng)用,消費(fèi)者的要求越來越高,除要求滿足使用功能外,消費(fèi)者對電子產(chǎn)品的外觀、觸摸質(zhì)感等也有了新的要求。比如,要求產(chǎn)品外殼具有絢麗的色彩、金屬質(zhì)感、耐磨損等。
利用反應(yīng)式磁控濺射鍍膜法對產(chǎn)品外殼進(jìn)行鍍膜加工,可使電子產(chǎn)品獲得具有各種色彩的、高金屬質(zhì)感的多層膜外殼,滿足目前消費(fèi)者的需求。
但是,隨著外型的不斷變化,產(chǎn)品的幾何形狀變得日趨復(fù)雜,使得鍍膜的難度也隨之增加。使用傳統(tǒng)的磁控濺鍍裝置進(jìn)行鍍膜加工時(shí),傳統(tǒng)的磁控濺鍍裝置中的料架基本都是通過帶動待鍍膜件圍繞設(shè)置于鍍膜腔中央位置的鍍膜源(靶材)旋轉(zhuǎn)來改變鍍膜角度。由此,對于待鍍膜件中的復(fù)雜形狀部分,特別是一些突起部的后方部分,易產(chǎn)生鍍膜不充分的現(xiàn)象,影響鍍膜元件的鍍膜質(zhì)量,造成產(chǎn)品不良率的增加。同時(shí),傳統(tǒng)的磁控濺鍍裝置通常是在單個(gè)圓周上設(shè)置料架,其可承載的待鍍膜件數(shù)量較為有限,對濺鍍靶材的利用率較低,鍍膜產(chǎn)能不高。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,有必要提供一種易于實(shí)現(xiàn)的、可有效解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題的鍍膜料架及具有該鍍膜料架的鍍膜設(shè)備。
一種鍍膜料架包括一個(gè)第一料架及一個(gè)第二料架。所述第一料架具有多個(gè)平行設(shè)置的且可繞其自身的中心軸旋轉(zhuǎn)的第一掛件桿。所述第二料架具有多個(gè)平行設(shè)置的且可繞其自身的中心軸旋轉(zhuǎn)的第二掛件桿。所述第一料架與所述第二料架同心設(shè)置且所述第二料架位于所述第一料架的內(nèi)側(cè)。所述鍍膜料架進(jìn)一步包括至少一個(gè)連接臂,所述連接臂連接所述第一料架與所述第二料架,使得所述第一料架與所述第二料架可以同時(shí)繞所述第一料架與所述第二料架的共同中心軸旋轉(zhuǎn)。
一種鍍膜設(shè)備,其具有一個(gè)鍍膜腔體。所述鍍膜腔體內(nèi)部設(shè)置有一個(gè)鍍膜料架。所述鍍膜料架包括一個(gè)第一料架及一個(gè)第二料架。所述第一料架具有多個(gè)平行設(shè)置的且可繞其自身的中心軸旋轉(zhuǎn)的第一掛件桿。所述第二料架具有多個(gè)平行設(shè)置的且可繞其自身的中心軸旋轉(zhuǎn)的第二掛件桿。所述第一料架與所述第二料架同心設(shè)置且所述第二料架位于所述第一料架的內(nèi)側(cè)。所述鍍膜料架進(jìn)一步包括至少一個(gè)連接臂,所述連接臂連接所述第一料架與所述第二料架,使得所述第一料架與所述第二料架可以同時(shí)繞所述第一料架與所述第二料架的共同中心軸旋轉(zhuǎn)。
相對于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的鍍膜料架具有如下優(yōu)點(diǎn):其一,利用同心設(shè)置的第一料架與第二料架,可以大幅的提高可承載的待鍍膜件數(shù)量,增加對濺鍍靶材的利用率,提高鍍膜產(chǎn)能。其二,所述鍍膜料架的掛件桿隨第一料架或第二料架旋轉(zhuǎn)的同時(shí),還可以繞其自身的中心軸旋轉(zhuǎn),由此,可以充分的調(diào)節(jié)承載于掛件桿上的待鍍膜件相對于鍍膜源的整體鍍膜角度及局部鍍膜角度,確保待鍍膜件中的復(fù)雜形狀部分,特別是一些突起部的后方部分得到充分的鍍膜,避免待鍍膜件不同部位產(chǎn)生鍍膜不充分的現(xiàn)象,提高待鍍膜件的鍍膜質(zhì)量。其三,利用簡單的連接臂將同心設(shè)置的第一料架與第二料架設(shè)為一個(gè)整體,便于簡化設(shè)置驅(qū)動機(jī)構(gòu)控制所述鍍膜料架的整體運(yùn)動。其四,第一料架與第二料架中的掛件桿相互錯開,可以有效地避免鍍膜加工時(shí)因遮擋而影響鍍膜效果的問題。
附圖說明
圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例提供的鍍膜料架的示意圖。
圖2是圖1所示的鍍膜料架的俯視圖。
圖3是圖1所示的鍍膜料架的傳動機(jī)構(gòu)的局部示意圖。
圖4是圖3所示的鍍膜料架的工作原理圖。
圖5是本發(fā)明第二實(shí)施例提供的具有圖1所示鍍膜料架的鍍膜設(shè)備的示意圖。
主要元件符號說明
第一料架????????????10
第一安裝架??????????11
第一掛件桿??????????13
第一從動齒輪????????15
中間齒輪????????????17
第二料架????????????20
第二安裝架??????????21
第二掛件桿??????????23
第二從動齒輪????????25
連接臂??????????????30
第一端??????????????31
第二端??????????????32
驅(qū)動機(jī)構(gòu)????????????50
驅(qū)動軸??????????????51
第一驅(qū)動齒輪????????53
第二驅(qū)動齒輪????????55
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
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- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





