[發(fā)明專利]雙層曝光補償方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010509167.2 | 申請日： | 2010-10-14 |
| 公開（公告）號： | CN102445855A | 公開（公告）日： | 2012-05-09 |
| 發(fā)明（設計）人： | 馮奎 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227 | 代理人： | 駱蘇華 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 雙層 曝光 補償 方法 | ||
1.一種雙層曝光補償方法，其特征在于，包括：
提供襯底和目標圖案，將目標圖案分成第一目標圖案和第二目標圖案；
將所述第一目標圖案和第二目標圖案分別轉移至第一光罩和第二光罩上；
獲取第一光罩和第二光罩之間的對準誤差補償值；
設置第二曝光參數(shù)，根據(jù)第二曝光參數(shù)和第一光罩在襯底表面形成第三轉移圖案，獲得第三補償參數(shù)；
根據(jù)第三補償參數(shù)修正第二曝光參數(shù)，獲得第三曝光參數(shù)；
根據(jù)第三曝光參數(shù)和第一光罩在襯底表面形成第四轉移圖案；
根據(jù)第三補償參數(shù)、第一光罩和第二光罩之間的對準誤差補償值，獲得第四補償參數(shù)；
根據(jù)第四補償參數(shù)修正第二曝光參數(shù)，獲得第四曝光參數(shù)；
根據(jù)第四曝光參數(shù)和第二光罩，在包含第四轉移圖案的襯底上形成第五轉移圖案，第四轉移圖案與第五轉移圖案合成目標圖案。
2.依據(jù)權利要求1的雙層曝光補償方法，其特征在于，第一光罩和第二光罩之間的對準誤差補償值僅與第一光罩、第二光罩的差異相關。
3.依據(jù)權利要求2的雙層曝光補償方法，其特征在于，所述第一光罩、第二光罩的差異包括第一光罩、第二光罩所選用材料、制作過程、制作工藝。
4.依據(jù)權利要求1的雙層曝光補償方法，其特征在于，所述獲取第一光罩和第二光罩之間的對準誤差補償值的步驟包括：
設置第一曝光參數(shù)，根據(jù)第一曝光參數(shù)和第一光罩獲得第一補償參數(shù)；
根據(jù)第一曝光參數(shù)和第二光罩獲得第二補償參數(shù)；
根據(jù)第一補償參數(shù)和第二補償參數(shù)獲得第一光罩和第二光罩的對準誤差補償值。
5.依據(jù)權利要求4的雙層曝光補償方法，其特征在于，第一光罩和第二光罩之間的對準誤差補償值為第一補償參數(shù)和第二補償參數(shù)之差。
6.依據(jù)權利要求1的雙層曝光補償方法，其特征在于，第一目標圖案、第二目標圖案分別與第一光罩、第二光罩相對應。
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