[發明專利]一種采用水熱法在銅基底上制備納米Cu2-xSe陣列的方法無效
| 申請號: | 201010508607.2 | 申請日: | 2010-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN102030315A | 公開(公告)日: | 2011-04-27 |
| 發明(設計)人: | 胡俊青;陳海華;陳輝輝;王娜;鄒儒佳;余利;張震宇 | 申請(專利權)人: | 東華大學 |
| 主分類號: | C01B19/04 | 分類號: | C01B19/04;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 上海泰能知識產權代理事務所 31233 | 代理人: | 黃志達;謝文凱 |
| 地址: | 201620 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 采用 水熱法 基底 制備 納米 cu sub se 陣列 方法 | ||
1.一種采用水熱法在銅基底上制備納米Cu2-xSe陣列的方法,包括:
(1)將銅基底放入10~40wt%濃鹽酸中浸泡1秒鐘~10分鐘,用去離子水洗滌表面,再將其在有機溶劑A中超聲洗滌1分鐘~1小時,烘干后備用;
(2)將硒粉按摩爾比1∶1~1∶5超聲溶解在氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液中,,得到硒粉氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液;
(3)將經步驟(1)處理后的銅基底與步驟(2)得到的溶液混合于容器中,加入1~20ml生長導向劑,然后添加去離子水或有機溶劑B至容器體積的4/5~24/25,于20~200℃反應0.5~50小時;待反應結束,取出銅基底,用乙醇洗滌,干燥后,即得到在銅基底上的納米Cu2-xSe陣列。
2.根據權利要求1所述的一種采用水熱法在銅基底上制備納米Cu2-xSe陣列的方法,其特征在于:所述步驟(1)中的銅基底表面需打磨,有機溶劑A為乙醇、丙酮或乙醚。
3.根據權利要求1所述的一種采用水熱法在銅基底上制備納米Cu2-xSe陣列的方法,其特征在于:所述步驟(2)中的氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液濃度為1×10-3~20mol/L。
4.根據權利要求1所述的一種采用水熱法在銅基底上制備納米Cu2-xSe陣列的方法,其特征在于:所述步驟(3)中的生長導向劑為聚乙二醇、PVP、氨水、乙二胺、聚乙烯醇中的一種或幾種,濃度為1×10-4~5mol/L。
5.根據權利要求1所述的一種采用水熱法在銅基底上制備納米Cu2-xSe陣列的方法,其特征在于:所述步驟(3)中的有機溶劑B為甲醇、乙醇、乙二醇、丙三醇中的一種或幾種。
6.根據權利要求1所述的一種采用水熱法在銅基底上制備納米Cu2-xSe陣列的方法,其特征在于:所述得到的納米Cu2-xSe陣列形貌為一維或二維。
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