[發明專利]光致發光薄膜、殼體及殼體的制作方法

無效

• 申請號: 201010508291.7
• 申請日: 2010-10-14
• 公開（公告）號: CN102448264A
• 公開（公告）日: 2012-05-09
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;王瑩瑩
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: H05K5/00
• 分類號: H05K5/00;C09K11/62;C23C14/08;C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光致發光薄膜，其特征在于：所述光致發光薄膜主要由摻銦氧化鋅組成。

2.如權利要求1所述的光致發光薄膜，其特征在于：所述光致發光薄膜進一步包括一種或多種稀有元素。

3.如權利要求2所述的光致發光薄膜，其特征在于：所述稀有元素包括鍶、銪、鉑。

4.如權利要求1所述的光致發光薄膜，其特征在于：所述光致發光薄膜的厚度在500nm以內。

5.一種殼體，包括一基體及形成在基體上的一光致發光薄膜，其特征在于：所述光致發光薄膜主要由摻銦氧化鋅組成。

6.如權利要求5所述的殼體，其特征在于：所述基體包括不銹鋼、銅、鈦、鈦合金、鋁、鋁合金。

7.一種殼體的制作方法，包括以下步驟：

提供一基體，將基體表面進行清洗；

將基體進行物理氣相沉積，形成一光致發光薄膜，該光致發光薄膜主要含有摻銦氧化鋅。

8.如權利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于：所述清洗步驟包括化學超聲波清洗與等離子體清洗中的至少一種。

9.如權利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于：所述物理氣相沉積的步驟具體為：開啟鋅靶與通入氧氣，鋅靶的功率為3～10kw，濺鍍20～60min，氧氣流量為10～120sccm，使基體表面濺射形成氧化鋅膜，然后關閉鋅靶并停止通入氧氣，接著開啟銦靶濺鍍5～10分鐘，使氧化鋅膜表面摻雜銦。

10.如權利要求9所述的殼體的制作方法，其特征在于：所述鋅靶靶材為單一的鋅金屬。

11.如權利要求9所述的殼體的制作方法，其特征在于：所述鋅靶靶材為鋅與稀有元素的一種或多種形成的合金。