[發明專利]氣浮結構無效
| 申請號： | 201010508116.8 | 申請日： | 2010-10-15 |
| 公開（公告）號： | CN102444670A | 公開（公告）日： | 2012-05-09 |
| 發明（設計）人： | 王茜 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | F16C32/06 | 分類號： | F16C32/06 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 201203*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 結構 | ||
1.一種氣浮結構，其特征是，包括：
基座；
第一導軌，固定安裝在所述基座上；
第二導軌，與所述第一導軌相互平行，并固定安裝在所述基座上；
龍門滑塊，滑動地安裝在所述第一導軌上，
L形滑塊，滑動地安裝在所述第二導軌上；以及
橫梁，連接所述龍門滑塊和所述L形滑塊；
所述龍門滑塊與所述第一導軌之間、所述L形滑塊與所述第二導軌之間均設有氣浮塊和真空塊；
通過所述橫梁傳遞所述龍門滑塊對所述第一導軌施加的垂直于所述第一導軌的力和所述L形滑塊對所述第二導軌施加的垂直于所述第二導軌的力。
2.根據權利要求1所述的氣浮結構，其特征是，所述龍門滑塊包括：
第一氣浮塊；
第一真空塊，與所述第一氣浮塊均設置在所述龍門滑塊的第三側上，用以提供垂向的氣浮力和真空吸力，以保持所述龍門滑塊懸浮在所述第一導軌上；
第三氣浮塊，設置在所述龍門滑塊的第一側上；以及
第四氣浮塊，設置在所述龍門滑塊的第二側上，所述第一側和第二側位置相對，所述第四氣浮塊與第三氣浮塊所施加的氣浮力方向相反。
3.根據權利要求1所述的氣浮結構，其特征在于，所述L形滑塊包括：
第二氣浮塊；
第二真空塊，與所述第二氣浮塊均設置在所述L形滑塊的第五側上，用以提供垂向的氣浮力和真空吸力，以保持所述L形滑塊懸浮在所述第二導軌上；以及
第三真空塊，設置在所述L形滑塊的第四側上，所述第三真空塊所施加的真空吸力與所述第三氣浮塊所施加的氣浮力方向相同。
4.根據權利要求1所述的氣浮結構，其特征是，所述第三真空塊替換為永磁體，提供與所述第三氣浮塊的氣浮力方向相同的吸引力。
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