[發明專利]一種光學擴散薄膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201010507756.7
• 申請日: 2010-10-15
• 公開（公告）號: CN101957465A
• 公開（公告）日: 2011-01-26
• 發明（設計）人: 霍新莉;趙保良;王旭亮;申躍生;熊躍彬
• 申請（專利權）人: 中國樂凱膠片集團公司;合肥樂凱科技產業有限公司;保定樂凱薄膜有限責任公司
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02;G02B1/10;B32B3/30;B32B27/08
• 代理公司: 石家莊冀科專利商標事務所有限公司 13108
• 代理人: 郭紹華;李羨民

1.一種光學擴散薄膜，它包括透明基材，設置在透明基材一個表面上的擴散涂層和設置在透明基材另一個表面的防粘接涂層，其特征在于，所述的防粘接涂層的表面具有凹坑，所述凹坑所占的面積之和與所述防粘接涂層的面積之比為2∶100～99∶100。

2.根據權利要求1所述的光學擴散薄膜，其特征在于，所述凹坑的最大直徑在0.01μm～80μm。

3.根據權利要求1或2所述的光學擴散薄膜，其特征在于，所述凹坑隨機排列或緊密排列在防粘接層的表面。

4.一種制備如權利要求1、2或3所述的光學擴散薄膜的方法，其特征在于，它包括涂敷工序、預處理工序和固化工序，所述的涂敷工序包括在透明基材的一面涂敷擴散涂層和在透明基材的另一面涂敷防粘接樹脂；所述的預處理工序是在50％以上的濕度條件對涂敷的防粘接樹脂預處理，使得水分能在涂布液體表面不斷吸附、解吸附，靠微小水滴的自重改變防粘接涂層的表面結構，接著經過固化，使防粘接涂層固化成膜，水分在固化時遇熱蒸發掉，防粘接涂層中被水份占據的部位在水蒸發后變成凹坑固定下來，在防粘接涂層的表面形成凹坑；所述的固化工序是對防粘接樹脂進行紫外固化或電離輻射固化處理。

5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述的預處理工序是在70％以上的濕度條件下對涂敷的防粘接樹脂預處理。