[發(fā)明專利]透鏡偏移測量設(shè)備、透鏡偏移測量方法和光學(xué)模塊制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010505581.6
• 申請日: 2010-09-29
• 公開（公告）號: CN102032982A
• 公開（公告）日: 2011-04-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田中良治
• 申請（專利權(quán)）人: 瑞薩電子株式會社
• 主分類號: G01M11/00
• 分類號: G01M11/00;G01B11/00;G02B6/42
• 代理公司: 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 孫志湧;安翔

1.一種透鏡偏移測量設(shè)備，包括：

輻射單元，其將光輻射到附透鏡構(gòu)件上，所述附透鏡構(gòu)件具有透鏡和用以保持所述透鏡的框體，從而產(chǎn)生來自所述框體的反射光和通過借助所述透鏡聚焦透射通過所述透鏡的光而形成的聚焦點(diǎn)；

成像單元，其中所述附透鏡構(gòu)件位于所述成像單元的成像范圍中；以及

圖像處理單元，其對通過所述成像單元獲得的成像結(jié)果執(zhí)行圖像處理并計(jì)算所述透鏡的偏移，

其中所述成像單元使來自所述框體的所述反射光和透射通過所述透鏡的所述光成像，以及

作為所述圖像處理，所述圖像處理單元執(zhí)行：

第一過程，在所述第一過程中，基于所述反射光的成像結(jié)果來計(jì)算所述框體的預(yù)定部的位置，

第二過程，在所述第二過程中，基于透射通過所述透鏡的所述光的成像結(jié)果來計(jì)算所述聚焦點(diǎn)的位置，以及

第三過程，在所述第三過程中，基于所述第一過程和所述第二過程的處理結(jié)果來計(jì)算所述聚焦點(diǎn)的所述位置相對于所述預(yù)定部的偏移量，作為所述透鏡的所述偏移。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡偏移測量設(shè)備，

其中，在所述第三過程中，還基于所述第一過程和所述第二過程的所述處理結(jié)果來計(jì)算所述聚焦點(diǎn)相對于所述預(yù)定部的偏移方向。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡偏移測量設(shè)備，

其中所述輻射單元包括：

第一輻射單元，其將第一光輻射到所述附透鏡構(gòu)件上，從而產(chǎn)生來自所述框體的所述反射光，以及

第二輻射單元，其將第二光輻射到所述附透鏡構(gòu)件上，從而產(chǎn)生所述聚焦點(diǎn)，

所述成像單元使從所述框體反射的所述第一光和透射通過所述透鏡的所述第二光成像，

在所述第一過程中，基于所述第一光的成像結(jié)果來計(jì)算所述框體的所述預(yù)定部的所述位置，以及

在所述第二過程中，基于所述第二光的成像結(jié)果來計(jì)算通過所述透鏡聚焦的所述第二光的聚焦點(diǎn)的位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的透鏡偏移測量設(shè)備，

其中所述第一光和所述第二光的波長彼此不同，

所述成像單元是使彩色圖像成像的彩色成像單元，

在來自所述第一輻射單元的所述第一光和來自所述第二輻射單元的所述第二光分別輻射的狀態(tài)下，通過所述成像單元執(zhí)行成像，以及

所述圖像處理單元從通過所述成像單元獲得的成像結(jié)果中提取所述第一光的成像結(jié)果和所述第二光的成像結(jié)果。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的透鏡偏移測量設(shè)備，進(jìn)一步包括：

控制單元，其控制所述第一輻射單元、所述第二輻射單元、所述成像單元和所述圖像處理單元的操作，

其中所述控制單元執(zhí)行第一控制和第二控制，以及

通過所述第一控制，在所述第一光從所述第一輻射單元輻射而所述第二光從所述第二輻射單元的輻射停止的狀態(tài)下，通過所述成像單元來執(zhí)行用于使從所述框體反射的所述第一光成像的第一成像操作，并基于通過執(zhí)行所述第一成像操作獲得的成像結(jié)果，通過所述圖像處理單元執(zhí)行所述第一過程，以及

通過所述第二控制，在所述第二光從所述第二輻射單元輻射而所述第一光從所述第一輻射單元的輻射停止的狀態(tài)下，通過所述成像單元來執(zhí)行用于使透射通過所述透鏡的所述第二光成像的第二成像操作，并基于通過執(zhí)行所述第二成像操作獲得的成像結(jié)果，通過所述圖像處理單元執(zhí)行所述第二過程。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的透鏡偏移測量設(shè)備，

其中所述第二輻射單元包括：

第二光源，其發(fā)射所述第二光，以及

轉(zhuǎn)換單元，其在所述第二光到達(dá)所述透鏡之前將從所述第二光源發(fā)射的所述第二光轉(zhuǎn)換成平行光。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的透鏡偏移測量設(shè)備，

其中所述第一輻射單元包括：

第一光源，其發(fā)射所述第一光，以及

半反射鏡，其將從所述第一光源發(fā)射的所述第一光反射到所述附透鏡構(gòu)件側(cè)，并將從所述框體反射的所述第一光透射到所述成像單元側(cè)，以及

所述透鏡偏移測量設(shè)備進(jìn)一步包括成像透鏡，所述成像透鏡使從所述框體反射的所述第一光和透射通過所述透鏡的所述第二光在所述成像單元中成像。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的透鏡偏移測量設(shè)備，進(jìn)一步包括：

保持單元，其將所述附透鏡構(gòu)件保持在所述第二輻射單元與所述成像單元之間，

其中所述保持單元由透過所述第二光的材料形成。