[發明專利]光學系統和具有該光學系統的光學裝置有效
| 申請號： | 201010503470.1 | 申請日： | 2010-10-12 |
| 公開（公告）號： | CN102043230A | 公開（公告）日： | 2011-05-04 |
| 發明（設計）人： | 杉田茂宣 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | G02B13/02 | 分類號： | G02B13/02;G02B13/00;G02B27/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 康建忠 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學系統 具有 光學 裝置 | ||
1.一種光學系統，從物側到像側順序地包括：
前單元，所述前單元具有正折光力；
孔徑光闌；以及
后單元，所述后單元具有正折光力或負折光力，
其中，所述前單元具有正透鏡Gp1，并且所述后單元具有負透鏡Gn1，以及
當正透鏡Gp1的材料的阿貝數被定義為vdp1，所述正透鏡的材料相對于g線和F線的部分色散比率被定義為θgFp1，負透鏡Gn1的材料相對于d線的折射率和阿貝數分別被定義為Ndn1和vdn1，并且所述負透鏡的材料相對于g線和F線的部分色散比率被定義為θgFn1時，滿足下面的條件：
75＜vdp1＜99，
0.020＜θgFp1-0.6438+0.001682×vdp1＜0.100，
1.75＜Ndn1＜2.10，以及
0.020＜θgFn1-0.6438+0.001682×vdn1＜0.100。
2.如權利要求1所述的光學系統，
其中，當從所述孔徑光闌到最接近像側的所述后單元的透鏡表面的距離被定義為L時，所述負透鏡Gn1被布置在距所述孔徑光闌的距離在0.5L和1.0L之間的狀態下。
3.如權利要求1所述的光學系統，
其中，所述后單元具有至少一個正透鏡Gp2；以及
當正透鏡Gp2的材料相對于d線的折射率和阿貝數分別被定義為Ndp2和vdp2，并且所述正透鏡的材料相對于g線和F線的部分色散比率被定義為θgFp2時，滿足下列條件：
1.90＜Ndp2+0.0125vdp2＜2.24以及
-0.010＜θgFp2-0.6438+0.001682×vdp2＜0.003。
4.如權利要求1所述的光學系統，
其中，所述后單元具有至少一個正透鏡Gp2；以及
當從所述孔徑光闌到最接近像側的所述后單元的透鏡表面的距離被定義為L時，所述后單元的正透鏡Gp2被布置在距所述孔徑光闌的距離在0.5L和1.0L之間的狀態下。
5.一種光學裝置，包括根據權利要求1到4中任意一個的光學系統。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于佳能株式會社，未經佳能株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010503470.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：液態金屬恒流速定點澆鑄系統
- 下一篇：一種三機三流板坯連鑄機生產線
