[發明專利]鍍膜用的遮擋組件及其應用的鍍膜裝置

無效

• 申請號: 201010503141.7
• 申請日: 2010-10-11
• 公開（公告）號: CN102443759A
• 公開（公告）日: 2012-05-09
• 發明（設計）人: 廖名揚;吳佳穎
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種鍍膜用的遮擋組件及其應用的鍍膜裝置。

背景技術

由于利用薄膜制程技術所生產的半導體產品和精密機械產品具有較高的品質及較好的性能，因此，薄膜制程技術被廣泛應用于半導體工業及精密機械，并獲得了迅速的發展。

一般地，鍍膜方法主要包括離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、真空蒸發法、化學氣相沉積法等。Ichiki，M.等人在2003年5月發表于2003?Symposium?on?Design，Test，Integration?and?Packagingof?MEMS/MOEMS的論文Thin?film?formation-a?fabrication?onnon-planar?surface?by?spray?coating?method中介紹了通過噴涂在非球面透鏡上形成薄膜的方法。

對待鍍膜產品的鍍膜過程可通過鍍膜裝置實現。鍍膜裝置一般包括鍍膜傘架、膜料源及修正板。所述鍍膜傘架用于承載多個待鍍膜產品。所述修正板安裝在膜料源及鍍膜傘架之間，用于調整待鍍膜產品的鍍膜厚度以及鍍膜區域，其對于不同的待鍍膜產品和鍍膜條件具有不同的形狀和結構。現有技術中，由于修正板只能通過人工的方式或另行制造、安裝其它型號的修正板的方式來調節修正板的形狀和結構，因此，不但降低了生產效率，而且提高了生產成本，不利于工業生產的進行。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種可根據待鍍膜產品及鍍膜條件自動調整形狀的鍍膜用的遮擋組件及其應用的鍍膜裝置。

一種鍍膜用的遮擋組件，其包括一個支撐板、第一活動葉片陣列、第二活動葉片陣列。所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別設置在所述支撐板相對的兩側邊上。所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別包括多個活動葉片。所述遮擋組件進一步包括多個驅動組件及多個控制單元。所述多個活動葉片分別與所述多個驅動組件連接。所述多個控制單元分別與所述多個驅動組件電性連接，用于控制所述驅動組件的運動，以改變所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列的形狀。

一種鍍膜裝置，其用于對待鍍膜基板進行蒸鍍，所述鍍膜裝置包括一腔體、一膜料源、一蒸發源、一鍍膜傘架，所述腔體包括一頂板及一與頂板相對的底板，所述鍍膜傘架固設在所述腔體的頂板內側，所述膜料源及所述蒸發源設置在所述腔體的底板上，所述膜料源包括一坩堝座及一膜料，所述坩堝座用于收容所述膜料。所述鍍膜裝置進一步包括設置在所述鍍膜傘架與所述膜料源之間的遮擋組件。所述遮擋組件包括一個支撐板、第一活動葉片陣列、第二活動葉片陣列。所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別設置在所述支撐板相對的兩側邊上。所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列分別包括多個活動葉片。所述遮擋組件進一步包括多個驅動組件及多個控制單元。所述多個活動葉片分別與所述多個驅動組件連接。所述多個控制單元分別與所述多個驅動組件電性連接，用于控制所述驅動組件的運動，以改變所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列的形狀。

相對于現有技術，本發明的遮擋組件包括多個驅動組件及多個控制單元。遮擋組件可以根據待鍍膜基板的鍍膜要求，通過所述控制單元分別控制對應的驅動組件來改變所述第一活動葉片陣列與第二活動葉片陣列的形狀，從而調整、改變遮擋組件對待鍍膜基板的遮擋面積。因此，本發明的鍍膜遮擋組件可在不同待鍍物品的不同鍍膜要求下使用。

附圖說明

圖1為本發明實施方式提供的鍍膜裝置的示意圖；

圖2為圖1中的鍍膜裝置的遮擋組件的第一狀態立體組裝示意圖；

圖3為圖1中的鍍膜裝置的遮擋組件的第二狀態立體組裝示意圖。

主要元件符號說明

鍍膜裝置????????????100

待鍍膜基板??????????200

腔體????????????????10

膜料源??????????????20

蒸發源??????????????30

鍍膜傘架????????????40

遮擋組件????????????50

頂板????????????????11

底板????????????????12

第一側板????????????13

坩堝座??????????????22

膜料????????????????24

頂面????????????????222

底面????????????????224