[發(fā)明專(zhuān)利]具有色彩之殼體及其表面處理方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010300797.9 | 申請(qǐng)日： | 2010-01-27 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN102137566A | 公開(kāi)（公告）日： | 2011-07-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳杰良;魏朝滄;王仲培;張慶州;簡(jiǎn)士哲;凌維成;吳佳穎;洪新欽;廖名揚(yáng);蔡泰生;黃建豪 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H05K5/00 | 分類(lèi)號(hào)： | H05K5/00;B44C1/04;C23C14/34 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 518109 廣東省深圳市*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 色彩 殼體 及其 表面 處理 方法 | ||
1.一種具有色彩之殼體，其特征在于，包含基材、色彩層及結(jié)合層，所述基材的表面包含至少一平滑區(qū)域，所述色彩層覆蓋基材的平滑區(qū)域，所述色彩層包含鉻金屬，所述色彩層于平滑區(qū)域中呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于17.93至19.93，a*坐標(biāo)介于23.74至24.74，而b*坐標(biāo)介于2.20至3.20，所述結(jié)合層設(shè)置于基材與色彩層之間，以接合基材與色彩層。
2.如權(quán)利要求1所述的具有色彩之殼體，其特征在于：所述基材為金屬材料或陶瓷材料。
3.如權(quán)利要求1所述的具有色彩之殼體，其特征在于：所述結(jié)合層包含氮化鈦。
4.如權(quán)利要求3所述的具有色彩之殼體，其特征在于：所述結(jié)合層在物理氣相沉積制程中利用鈦靶材所形成。
5.如權(quán)利要求1所述的具有色彩之殼體，其特征在于：所述色彩層包含鉻鋁合金。
6.如權(quán)利要求5所述的具有色彩之殼體，其特征在于：所述色彩層在物理氣相沉積制程中利用鉻靶材與鋁靶材所形成。
7.如權(quán)利要求1所述的具有色彩之殼體，其特征在于：所述具有色彩之殼體的維氏硬度(Vickers?hardness)大于等于300HV。
8.一種具有色彩之殼體之表面處理方法，該方法包括下列步驟：
提供一基材；
形成一結(jié)合層，覆蓋該基材的表面；以及
利用一物理氣相沉積制程形成一色彩層，覆蓋所述結(jié)合層的表面，所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于17.93至19.93，a*坐標(biāo)介于23.74至24.74，而b*坐標(biāo)介于2.20至3.20。
9.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述基材為金屬材料或陶瓷材料。
10.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述形成結(jié)合層的步驟包含物理氣相沉積制程。
11.如權(quán)利要求10所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積制程包含利用鈦靶材進(jìn)行濺鍍，所述結(jié)合層包含氮化鈦。
12.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積制程包含利用鉻靶材與鋁靶材進(jìn)行濺鍍，所述色彩層包含鉻鋁合金。
13.如權(quán)利要求12所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積制程轟擊鉻靶材的功率介于10.8至13.2千瓦。
14.如權(quán)利要求12所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積制程轟擊該鋁靶材的功率介于27至33千瓦。
15.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積制程的偏壓介于180至220伏特。
16.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積制程的制程溫度介于攝氏180至220度。
17.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積制程的制程時(shí)間介于21.6至26.4分鐘。
18.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積制程的制程壓力介于3.78至4.62毫托耳。
19.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積制程包括提供氬氣，所述氬氣的流量介于54至66標(biāo)準(zhǔn)立方公分每分鐘(standard?cubiccentimeter?per?minute，sccm)。
20.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述物理氣相沉積制程包括提供氧氣，所述氧的流量介于162至198標(biāo)準(zhǔn)立方公分每分鐘。
21.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述基材在物理氣相沉積制程中的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速介于1.8至2.2轉(zhuǎn)速每分鐘(revolution?per?minute，rpm)。
22.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于：所述基材在物理氣相沉積制程中的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速介于7.2至8.8rpm。
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