[發明專利]一種用于制作精細陶瓷構件的先驅體聚合物及其合成方法無效
| 申請號： | 201010300644.4 | 申請日： | 2010-01-25 |
| 公開（公告）號： | CN101768275A | 公開（公告）日： | 2010-07-07 |
| 發明（設計）人： | 李義和;李效東;金東杓;方慶玲 | 申請（專利權）人： | 中國人民解放軍國防科學技術大學 |
| 主分類號： | C08G77/62 | 分類號： | C08G77/62 |
| 代理公司： | 長沙星耀專利事務所 43205 | 代理人： | 趙靜華 |
| 地址： | 410073湖*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 制作 精細 陶瓷 構件 先驅 聚合物 及其 合成 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于制作精細陶瓷構件的先驅體聚合物，其特征在于，是由硅氮烷低聚物與帶光敏基團的異氰酸鹽聚合，將光交聯基團鏈接到聚硅氮烷分子骨架上，生成具有以下化學結構式的產物，其數均分子量Mn為575，
式中，
R為氫原子或乙烯基；
n為聚合度，n＝8～11；
m為改性官能團數，m＝1～3。
2.一種權利要求1所述用于制作精細陶瓷構件的先驅體聚合物的合成方法，其特征在于，在真空線上按照標準蘇倫克技術進行以下步驟：
(1)將一定的硅氮烷低聚物溶解在非活性質子溶劑中配成質量百分比濃度為10～30％的溶液；攪拌10～20min，混合均勻；
(2)慢慢滴加占聚硅氮烷重量5～20％的帶光敏基團的異氰酸鹽；
(3)在溫度20-70℃、磁力攪拌條件下，反應15～80hr；
(4)用高真空泵去除產品中的溶劑及少量殘余異氰酸鹽，即為產品。
3.根據權利要求2所述的合成方法，其特征在于，所述溶劑為非質子溶劑，如苯、甲苯、二甲苯、四氫呋喃。
4.權利要求1所述用于制作精細陶瓷構件的先驅體聚合物的應用，其特征在于，包括以下步驟：
(1)在合成的先驅體聚合物酸中加入質量百分比0.1～0.3％激光染料，充分混合均勻；
(2)取1滴配制好的試樣放入載玻片上；
(3)試樣在雙光子吸收立體刻蝕系統中經激光刻蝕，交聯固化，熱處理，可得到各種二維、三維精細陶瓷構件。
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