[發(fā)明專利]一種用于制作精細(xì)陶瓷構(gòu)件的先驅(qū)體聚合物及其合成方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010300644.4
• 申請日: 2010-01-25
• 公開（公告）號: CN101768275A
• 公開（公告）日: 2010-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李義和;李效東;金東杓;方慶玲
• 申請（專利權(quán)）人: 中國人民解放軍國防科學(xué)技術(shù)大學(xué)
• 主分類號: C08G77/62
• 分類號: C08G77/62
• 代理公司: 長沙星耀專利事務(wù)所 43205
• 代理人: 趙靜華

1.一種用于制作精細(xì)陶瓷構(gòu)件的先驅(qū)體聚合物，其特征在于，是由硅氮烷低聚物與帶光敏基團(tuán)的異氰酸鹽聚合，將光交聯(lián)基團(tuán)鏈接到聚硅氮烷分子骨架上，生成具有以下化學(xué)結(jié)構(gòu)式的產(chǎn)物，其數(shù)均分子量Mn為575，

式中，

R為氫原子或乙烯基；

n為聚合度，n＝8～11；

m為改性官能團(tuán)數(shù)，m＝1～3。

2.一種權(quán)利要求1所述用于制作精細(xì)陶瓷構(gòu)件的先驅(qū)體聚合物的合成方法，其特征在于，在真空線上按照標(biāo)準(zhǔn)蘇倫克技術(shù)進(jìn)行以下步驟：

(1)將一定的硅氮烷低聚物溶解在非活性質(zhì)子溶劑中配成質(zhì)量百分比濃度為10～30％的溶液；攪拌10～20min，混合均勻；

(2)慢慢滴加占聚硅氮烷重量5～20％的帶光敏基團(tuán)的異氰酸鹽；

(3)在溫度20-70℃、磁力攪拌條件下，反應(yīng)15～80hr；

(4)用高真空泵去除產(chǎn)品中的溶劑及少量殘余異氰酸鹽，即為產(chǎn)品。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的合成方法，其特征在于，所述溶劑為非質(zhì)子溶劑，如苯、甲苯、二甲苯、四氫呋喃。

4.權(quán)利要求1所述用于制作精細(xì)陶瓷構(gòu)件的先驅(qū)體聚合物的應(yīng)用，其特征在于，包括以下步驟：

(1)在合成的先驅(qū)體聚合物酸中加入質(zhì)量百分比0.1～0.3％激光染料，充分混合均勻；

(2)取1滴配制好的試樣放入載玻片上；

(3)試樣在雙光子吸收立體刻蝕系統(tǒng)中經(jīng)激光刻蝕，交聯(lián)固化，熱處理，可得到各種二維、三維精細(xì)陶瓷構(gòu)件。