[發(fā)明專利]一種光掩模在清洗過程中的傳輸方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010300502.8
• 申請日: 2010-01-20
• 公開（公告）號: CN102125921A
• 公開（公告）日: 2011-07-20
• 發(fā)明（設計）人: 徐飛;金海濤;吉保國
• 申請（專利權(quán)）人: 常州瑞擇微電子科技有限公司
• 主分類號: B08B13/00
• 分類號: B08B13/00;B08B3/00;G03F1/00
• 代理公司: 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231
• 代理人: 金輝

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種光掩模在清洗過程中的傳輸方法。

背景技術(shù)

隨著社會的不斷發(fā)展和進步，電腦、手機、IC卡等等已成為現(xiàn)代人生活必不可少的一部分，現(xiàn)代高速計算機、通訊系統(tǒng)、流水線生產(chǎn)和交通網(wǎng)絡等等也成為各個領(lǐng)域必不可少的組成部分，然后統(tǒng)統(tǒng)這些都是建立在發(fā)達的半導體集成電路技術(shù)上的，因此可以說半導體集成電路已經(jīng)在人民生活、工業(yè)生產(chǎn)、社會管理等等各個方面有著極為重要的地位。

在集成電路生產(chǎn)制作流程中，最前沿、最關(guān)鍵部分是光掩模，光掩模是集成電路設計的載體，是半導體芯片制作過程中必不可少的“模具”，光掩模的技術(shù)高低決定了半導體芯片的運行速度和可靠性。一套光掩?？蓮椭瞥龀汕先f的芯片，因此光掩模的品質(zhì)決定了半導體芯片的先進程度。

光掩模的制作工藝中必不可少的一個環(huán)節(jié)就是光掩模的清洗工藝，傳統(tǒng)的光掩模清洗過程是使用機械手夾持光掩模放入不同的清洗腔內(nèi)進行清洗，由于光掩模的是被機械手直接接觸，因此清洗后的光掩模還是容易受到機械手的污染，而且光掩模被機械手夾持的地方也會容易出現(xiàn)損壞，最重要的是光掩模有多種不同的尺寸和形狀，為配合不同尺寸和形狀的光掩模就需要設計非常多不同型號的機械手，機械手的生產(chǎn)是非常昂貴的而且更換也不方便。

綜上所述，傳統(tǒng)的光掩模的清洗工藝具有成品率低、生產(chǎn)成本高、安裝使用不方便等缺點。因此迫切需要在現(xiàn)有設備的基礎(chǔ)上采用新的方法與相應的裝置來解決現(xiàn)有技術(shù)中的缺點。

發(fā)明內(nèi)容

本實發(fā)明的目的在于提供一種光掩模在清洗過程中的傳輸方法，簡單方便，對光掩模的清洗干凈徹底，更有效降低生產(chǎn)成本。

實現(xiàn)本發(fā)明目的的技術(shù)方案是：一種光掩模在清洗過程中的傳輸方法，具有以下步驟：

①先將光掩模放置于卡盤上；

②機械手抓住放置有光掩模的卡盤，并將其移動至翻轉(zhuǎn)裝置上；

③翻轉(zhuǎn)裝置將卡盤上的光掩模翻轉(zhuǎn)；

④機械手再次抓住放置有光掩模的卡盤，并將其依次移動至各個不同的工藝腔內(nèi)進行清洗；

⑤清洗完成后機械手抓住放置有光掩模的卡盤，并將其送回翻轉(zhuǎn)裝置上；

⑥翻轉(zhuǎn)裝置再次將卡盤上的光掩模翻轉(zhuǎn)；

⑦機械手抓住放置有光掩模的卡盤，并將其送回初始位置。

步驟①中的卡盤包括把手、托盤和數(shù)個定位機構(gòu)；所述把手位于托盤的底部，定位機構(gòu)均勻設置于卡盤的托盤的上部；

步驟①中光掩模放置于卡盤上的具體方法是：將光掩模放置在卡盤的定位機構(gòu)上，由定位機構(gòu)卡住光掩模。

所述卡盤的定位機構(gòu)有側(cè)面設有缺口，中心設有穿過托盤的圓孔。

所述卡盤的定位機構(gòu)上還在所述圓孔附近設置有用于支撐光掩模的凸點。

所述卡盤的定位機構(gòu)的下半部為圓柱形，上半部分為兩片扇型柱，缺口位于兩片扇型柱之間；所述定位機構(gòu)通過兩片扇型柱卡住光掩模。

所述把手的底部設有非圓形的卡槽，把手左右兩側(cè)的中部均設有抓槽。

所述機械手的形狀與抓槽相配合；

步驟②中機械手抓住把手的具體方法是：機械手抓住把手的抓槽的槽底。

步驟③和④中的翻轉(zhuǎn)裝置和工藝腔均設有與卡盤的卡槽配合的卡頭。

將卡盤放置在翻轉(zhuǎn)裝置和工藝腔的方法是：讓卡盤的卡槽罩住翻轉(zhuǎn)裝置或者工藝腔的卡頭。

對于不同型號的光掩模設有相應型號的卡盤，卡盤的把手的尺寸和形狀是固定的。

所述卡盤是耐腐蝕的塑料材質(zhì)。

本發(fā)明具有以下的有益效果：(1)本發(fā)明為光掩模提供了一個隨行的卡盤，在移動光掩模的過程中，機械手只接觸卡盤而并不與光掩模直接接觸，這種方法解決了現(xiàn)有技術(shù)中機械手容易污染、損壞光掩模的缺點。

(2)本發(fā)明對于不同型號即不同尺寸和形狀的光掩模設有相應型號的卡盤，卡盤的把手的尺寸和形狀是固定的，這樣對于不同型號的光掩模就不必要設置相應的機械手，只需要設置一套機械手和不同型號的卡盤便能完成對各種型號光掩模的清洗，而卡盤是耐腐蝕的塑料材質(zhì)，其注塑生產(chǎn)成本遠遠低于機械手的生產(chǎn)成本，而且更換卡盤也比更換機械手簡單得多。

(3)本發(fā)明的定位機構(gòu)側(cè)面設有缺口，中心設有穿過托盤的圓孔，這樣在清洗光掩模時，光掩模與卡盤接觸處的液體就能從此缺口和圓孔中排出，清洗干凈徹底。

(4)本發(fā)明的定位機構(gòu)上還設置有凸點，凸點一方面能夠減少光掩模與定位機構(gòu)的接觸面積，另一方面使光掩模與定位機構(gòu)上的圓孔之間形成空隙，方面清洗液體的甩出；這樣的結(jié)構(gòu)能使得光掩模的清洗更加充分和徹底。

附圖說明