[發明專利]一種光、熱穩定型超分子結構酸性黃17插層顏料及其制備方法

無效

• 申請號: 201010299628.8
• 申請日: 2010-10-08
• 公開（公告）號: CN101982509A
• 公開（公告）日: 2011-03-02
• 發明（設計）人: 李殿卿;王倩;馮擁軍;馮俊婷
• 申請（專利權）人: 北京化工大學
• 主分類號: C09B67/20
• 分類號: C09B67/20;C09B67/00
• 代理公司: 北京金富邦專利事務所有限責任公司 11014
• 代理人: 揭玉斌

1.一種超分子結構酸性黃17插層顏料，其分子式為[M²⁺_1-xM³⁺_x(OH)₂](AY17)_x/2·mH₂O，其中，2≤(1-x)/x≤4；m為層間結晶水分子數，0.01＜m＜4；M²⁺為二價金屬離子Mg²⁺、Zn²⁺、Ni²⁺、Fe²⁺或Cu²⁺中的任意一種；M³⁺為三價金屬離子Al³⁺、Co³⁺、Ti³⁺、Fe³⁺或Cr³⁺中的任意一種；AY17俗稱酸性黃17，其分子式為C₁₆H₁₀C₁₂N₄Na₂O₇S₂。

2.根據權利要求1所述的超分子結構酸性黃17插層顏料，其特征是M²⁺是Mg²⁺或Zn²⁺；M³⁺是Al³⁺。

3.一種制備如權利要求1所述的超分子結構酸性黃17插層顏料的制備方法，具體制備步驟如下：

A.將可溶性二價鹽溶液、可溶性三價鹽溶液和酸性黃17溶于脫CO₂的去離子水中配制成混合溶液；其中，二價金屬離子M²⁺為Mg²⁺、Zn²⁺、Ni²⁺、Fe²⁺或Cu²⁺中的一種；三價金屬離子M³⁺為Al³⁺、Co³⁺、Ti³⁺、Fe³⁺或Cr³⁺中的一種；陰離子為Cl^-、CO₃^2-、NO₃^-及SO₄^2-中的一種或兩利；混合溶液中M²⁺的濃度為0.2～1mol/L，M²⁺和M³⁺的摩爾比為2～4∶1，酸性黃17和M³⁺的摩爾比為0.5～4∶1；

B.另將NaOH溶于脫CO₂的去離子水中配制成堿溶液，其中NaOH的摩爾濃度為步驟A中M²⁺和M³⁺摩爾濃度之和的1～2倍。

C.將步驟A、B制得的兩種溶液以相同的流速加入全返混液膜反應器中快速成核，然后將制得的漿液迅速轉移到帶攪拌裝置的反應器中，N₂氣保護下強烈攪拌，在60℃～110℃溫度下晶化12～96小時，過濾，洗滌，50℃～100℃溫度下干燥6～24小時，得到酸性黃17陰離子插層的插層顏料。

4.根據權利要求3所述的超分子結構酸性黃17插層顏料的制備方法，其特征是步驟A所述的混合溶液中，二價金屬離子M²⁺為Mg²⁺或Zn²⁺；三價金屬離子M³⁺為Al³⁺；酸性黃17和M³⁺的摩爾比為0.5～2∶1。

5.根據權利要求3所述的超分子結構酸性黃17插層顏料的制備方法，其特征是步驟C所述的晶化溫度是60℃～100℃；全返混液膜反應器的轉速為2000～5000rpm，轉子和定子的相對位置為8～16微米。