[發明專利]用于抗蝕劑的保護層的聚合物以及包括其的聚合物組合物

無效

• 申請號: 201010299478.0
• 申請日: 2010-09-30
• 公開（公告）號: CN102070746A
• 公開（公告）日: 2011-05-25
• 發明（設計）人: 尹祥根;崔相俊;崔承集;李圣宰
• 申請（專利權）人: 第一毛織株式會社
• 主分類號: C08F220/28
• 分類號: C08F220/28;C08F220/18;C08F220/38;C08F220/22;G03F7/004;G03F7/075;G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 李丙林;張英

1.一種用于抗蝕劑保護層的聚合物，包括：

第一重復單元，所述第一重復單元由以下化學式1表示；以及

第二重復單元，所述第二重復單元包括由以下化學式2至6表示的至少一種重復單元：

[化學式1]

其中，在化學式1中，

R₁是氫、氟、或取代或未取代的烷基基團，

R₂是氫或取代或未取代的烷基基團，

R₃和R₄是相同或不同的，并且是氫、氟、或取代或未取代的烷基基團，

R₅至R₆是相同或不同的，并且是氫或氟烷基基團，條件是至少一個R₅至R₆是-(CH₂)_n-CF₃，其中n是0至10，

R₇是OH或SH，以及

a是從0至10的整數，

[化學式2]

其中，在化學式2中，

R₂₀是氫、氟、或取代或未取代的烷基基團，

R₂₁是單鍵或亞烷基基團，以及

R₂₂至R₂₄是相同或不同的，并且是氫、氟、取代或未取代的烷基基團、OR₂₅、或OR₂₆OH，其中R₂₅和R₂₆是相同或不同的，并且是氫、氟、取代或未取代的烷基基團、或Si(R₂₇)₃，其中R₂₇是氫、氟、或取代或未取代的烷基基團，

[化學式3]

其中，在化學式3中，

R₃₀是氫、氟、或取代或未取代的烷基基團，

R₃₁是單鍵、或取代或未取代的亞烷基基團，以及

R₃₂至R₃₄是相同或不同的，并且是氫、氟、取代或未取代的烷基基團、或OR₃₅，其中R₃₅是氫、氟、取代或未取代的烷基基團、或Si(R₃₆)₃，其中R₃₆是氫、氟、或取代或未取代的烷基基團，

[化學式4]

其中，在化學式4中，

R₄₀是氫、氟、或取代或未取代的烷基基團，

R₄₁是單鍵、或亞烷基基團，其中碳被氮部分地取代或未取代，以及

R₄₂是取代或未取代的烷基基團或OH基團，

[化學式5]

其中，在化學式5中

R₅₀是氫、氟、或取代或未取代的烷基基團，

R₅₁是單鍵，或直鏈、支鏈、或環狀亞烷基基團，其中碳被氮部分地取代或未取代，以及

R₅₂是取代或未取代的烷基基團或OH基團，

[化學式6]

其中，在化學式6中，

R₆₀是氫、氟、或取代或未取代的烷基基團，以及

R₆₁是氫、取代或未取代的烷基基團、或羥烷基基團。

2.根據權利要求1所述的用于抗蝕劑保護層的聚合物，其中，以95∶5至30∶70mol％的比率混合所述第一重復單元和所述第二重復單元。

3.根據權利要求1所述的用于抗蝕劑保護層的聚合物，其中，所述聚合物具有從3000至50,000的重均分子量。

4.一種抗蝕劑保護層組合物，包括：

根據權利要求1所述的聚合物；以及

有機溶劑。

5.根據權利要求4所述的抗蝕劑保護層組合物，其中，基于100重量份的所述有機溶劑，所述聚合物以1至30重量份的量被包括。

6.根據權利要求4所述的抗蝕劑保護層組合物，其中，所述抗蝕劑保護層組合物進一步包括光生酸劑。

7.一種形成圖案的方法，包括：

在基板上設置光敏樹脂組合物層；

利用根據權利要求4所述的保護層組合物，在所述光敏樹脂組合物層上設置保護層；以及

利用液體浸沒式光刻來形成圖案。