[發(fā)明專利]涂層、具有該涂層的被覆件及該被覆件的制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010299025.8
• 申請(qǐng)日: 2010-10-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102443773A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-05-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;馬闖
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/06;B32B9/00
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種涂層，該涂層包括納米復(fù)合層，其特征在于：該納米復(fù)合層包括若干ZrN層和若干ZrYN層，所述若干ZrN層和若干ZrYN層交替排布。

2.如權(quán)利要求1所述的涂層，其特征在于：每一ZrN層的厚度為10～20nm，每一ZrYN層的厚度為10～20nm。

3.如權(quán)利要求1所述的涂層，其特征在于：該涂層的總厚度為1～4μm。

4.如權(quán)利要求1所述的涂層，其特征在于：該涂層還包括形成于該納米復(fù)合層上的顏色層。

5.一種被覆件，該被覆件包括基體、形成于該基體的結(jié)合層及形成于該結(jié)合層上的涂層，該涂層包括納米復(fù)合層，其特征在于：該結(jié)合層為ZrY層，該納米復(fù)合層包括若干ZrN層和若干ZrYN層，所述若干ZrN層和若干ZrYN層交替排布。

6.如權(quán)利要求5所述的被覆件，其特征在于：該結(jié)合層為ZrY層，其厚度為0.05～0.2μm。

7.一種被覆件的制造方法，包括以下步驟：

提供基體；

于該基體的表面磁控濺射結(jié)合層，該結(jié)合層為ZrY層；

于該結(jié)合層的表面磁控濺射納米復(fù)合層，該納米復(fù)合層包括若干ZrN層和若干ZrYN層，所述若干ZrN層和若干ZrYN層交替排布。

8.如權(quán)利要求7所述的被覆件的制造方法，其特征在于：磁控濺射該結(jié)合層的步驟以如下方式進(jìn)行：以鋯靶及鋯釔合金靶為靶材，設(shè)置所述鋯靶及鋯釔合金靶的電流均為20～100A，以氬氣為工作氣體，其流量為150～300sccm，對(duì)基體施加-100～-300V的偏壓，濺射溫度為150～300，濺射時(shí)間為5～15min。

9.如權(quán)利要求7所述的被覆件的制造方法，其特征在于：磁控濺射該納米復(fù)合層的步驟以如下方式進(jìn)行：以鋯靶和鋯釔合金靶為交替開(kāi)啟的靶材，以氮?dú)鉃榉磻?yīng)性氣體，其流量為10～200sccm，濺射時(shí)間為60～120min。

10.如權(quán)利要求7或9所述的被覆件的制造方法，其特征在于：該鋯釔合金靶中Zr的質(zhì)量百分含量為70～90％。