[發明專利]脈沖小孔側部噴射制備均一粒子的方法及裝置

有效

• 申請號: 201010297072.9
• 申請日: 2010-09-28
• 公開（公告）號: CN102009180A
• 公開（公告）日: 2011-04-13
• 發明（設計）人: 戰麗姝;董偉;譚毅;李國斌
• 申請（專利權）人: 大連隆田科技有限公司
• 主分類號: B22F9/08
• 分類號: B22F9/08
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 陳紅燕

1.一種脈沖小孔側部噴射制備均一粒子的裝置，其特征在于：

它包括可分別開啟的密封的真空室和回收倉；回收倉固定放置于真空室的下面；

所述真空室的殼體上設置真空泵和供氣管I，真空室內設置有粒子噴射裝置和用以支撐所述粒子噴射裝置的支架；所述粒子噴射裝置包括：

裝有加熱器的熔池，其上還安裝有供氣管II，接通到真空室外；

帶孔坩堝，其一側壁上設有一個以上孔徑不同的噴射孔，對側壁上固定有壓片，所述壓片通過水平設置并僅可沿其軸向產生水平位移的傳動桿連接壓電陶瓷；所述帶孔坩堝位于所述熔池下方并以連通管相互連通；

所述回收倉內設置了與所述噴射孔數量一致的降落管和與所述降落管一一對應并密封連通的回收室；

所述降落管貫通回收倉的上頂和真空室的底部，并對應所述不同孔徑的噴射孔噴射出的不同粒度的粒子的下落位置設置；

所述帶孔坩堝、噴射孔及降落管的材質的熔點均高于所制備粒子的材質熔點，并且與所制備粒子的材質的潤濕角均大于90°。

2.根據權利要求1所述的脈沖小孔側部噴射制備均一粒子的裝置，其特征在于：

所述加熱器為環形加熱器，固定安裝于所述熔池的外圍。

3.根據權利要求1或2所述的脈沖小孔側部噴射制備均一粒子的裝置，其特征在于：

所述降落管為石英降落管。

4.一種采用如權利要求1所述的裝置制備均一粒子的方法，包括下述步驟：

(1)整個裝置包括真空室和回收倉抽高真空后，通過供氣管I通入惰性氣體，達到0.1Mpa；

(2)在惰性氣體保護下，通過加熱器將熔池中的原料加熱至熔融狀態；

(3)繼而通過供氣管II繼續向熔池中通入惰性氣體，在熔池內的惰性氣體壓力大于所述裝置熔池外的空間的惰性氣體壓力2-10kPa的條件下，所述熔融態原料經連通管充滿位于其下的帶孔坩堝；

(4)利用壓電陶瓷在脈沖驅動信號的激勵下產生指向所述坩堝側的的位移，并經由傳動桿及壓片傳遞給坩堝中的熔體，而使一定量的熔體經坩堝側面的孔徑不同的噴射孔射出不同粒度的熔融態粒子；

(5)所述熔融態粒子在作類平拋運動過程中，對應其不同的水平位移落入相應的降落管中，并在繼續下降的過程中最終凝固后落入各自對應的回收室中加以回收。

5.根據權利要求4所述的制備均一粒子的方法，其特征在于：

所述步驟(1)中的高真空度為0.001-0.01Pa以下。

6.根據權利要求4所述的制備均一粒子的方法，其特征在于：

所述惰性氣體為氬氣。

7.根據權利要求4、5或6所述任一制備均一粒子的方法，其特征在于：

所述熔池中原料的加入量占熔池容積的50-70％。