[發明專利]硅冶煉爐余能回收工藝及其裝置

有效

• 申請號: 201010296837.7
• 申請日: 2010-09-17
• 公開（公告）號: CN101936666A
• 公開（公告）日: 2011-01-05
• 發明（設計）人: 何宏舟;李志偉;鄒崢;黃慶耀;鄭木輝
• 申請（專利權）人: 集美大學
• 主分類號: F27D17/00
• 分類號: F27D17/00;F01D15/10
• 代理公司: 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203
• 代理人: 朱凌

1.一種硅冶煉爐余能回收工藝，其特征在于：(1)在二層爐膛凈空區內安裝輻射受熱面，使硅冶煉爐爐膛煙氣溫度下降；(2)在爐膛凈空區下部開進風口鼓風，再次降低爐膛煙溫以保護電極；(3)在三層爐罩的煙氣出口處安裝余熱鍋爐回收冶煉爐系統排氣余熱；(4)余熱鍋爐產生的蒸汽通過汽輪機做功，并帶動發電機發電。

2.一種硅冶煉爐余能回收裝置，所述的硅冶煉爐包括一層原料反應區，二層爐膛凈空區，三層爐罩；其特征在于：它主要由輻射受熱面、鼓風機、余熱鍋爐、蒸汽汽輪機和發電機組組成；

所述的輻射受熱面安裝于二層爐膛凈空區；在二層爐膛凈空區的下部開設鼓風機進風口，鼓風機通過管道連接該進風口；余熱鍋爐通過管道與爐罩的煙氣出口連接；余熱鍋爐的排氣管道連接除塵器，除塵器通過管道與引風機連接；引風機的另一端連接煙囪；余熱鍋爐產生蒸汽并連接蒸汽汽輪機，帶動與蒸汽輪機連接的發電機組發電。

3.根據權利要求2所述的硅冶煉爐余能回收裝置，其特征在于：所述的輻射受熱面布置于爐膛凈空區，并把爐膛凈空區封閉或半封閉的包圍起來。

4.根據權利要求2或3所述的硅冶煉爐余能回收裝置，其特征在于：所述的輻射受熱面由若干片膜式水冷壁和隔磁材料組成；若干片膜式水冷壁依序連接，在兩片膜式水冷壁之間采用隔磁材料間隔，以避免產生電磁渦流。