[發明專利]一種藍寶石圖形襯底及其制備方法

無效

• 申請號: 201010296105.8
• 申請日: 2010-09-29
• 公開（公告）號: CN102064257A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: 王懷兵;孔俊杰;黃小輝;吳思;范亞明;劉建平;楊輝
• 申請（專利權）人: 蘇州納晶光電有限公司
• 主分類號: H01L33/20
• 分類號: H01L33/20;H01L33/00
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 陶海鋒

1.一種藍寶石圖形襯底，其特征在于：所述襯底圖形為連續的網狀結構，襯底圖形的各組成邊為脊形結構。

2.根據權利要求1所述的藍寶石圖形襯底，其特征在于，所述各組成邊的脊形結構為：各組成邊的剖面呈三角形或弧形，其高度為0.1～3μm，底部寬度為0.15～3μm，底部傾角為45～60度。

3.根據權利要求1所述的藍寶石圖形襯底，其特征在于：所述襯底圖形的網狀結構的重復單元為等邊三角形，等邊三角形的高為0.3～10μm。

4.根據權利要求3所述的藍寶石圖形襯底，其特征在于：所述等邊三角形的一條邊與藍寶石襯底的定位邊平行。

5.一種藍寶石圖形襯底的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)設計制作具有權利要求1所述的襯底圖形結構的光刻版；

(2)光刻：在藍寶石襯底上涂覆光刻膠、烘干、曝光、顯影、后烘，將上述光刻版的圖形轉移到光刻膠層上；

(3)刻蝕：采用ICP干法刻蝕技術對上述具有圖形化光刻膠層的藍寶石襯底進行刻蝕，將所述圖形轉移到藍寶石襯底上，去除光刻膠層，即可獲得所述藍寶石圖形襯底。

6.一種藍寶石圖形襯底的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)設計制作具有權利要求1所述的襯底圖形結構的光刻版；

(2)在藍寶石襯底上沉積二氧化硅層，在所述二氧化硅層上涂敷光刻膠、烘干、曝光、顯影、后烘，將所述光刻版圖形轉移到光刻膠層上；采用BOE溶液刻蝕二氧化硅層，將光刻膠層上的圖形轉移到二氧化硅層上，然后去除光刻膠層；

(3)采用濕法刻蝕技術對上述具有圖形化二氧化硅層的藍寶石襯底進行刻蝕，將所述圖形轉移到藍寶石襯底上，然后去除二氧化硅層，即可獲得所述藍寶石圖形襯底。