[發明專利]用于制造磁盤裝置的方法

無效

• 申請號: 201010295642.0
• 申請日: 2010-09-21
• 公開（公告）號: CN102044264A
• 公開（公告）日: 2011-05-04
• 發明（設計）人: 赤城協;橋本識志;石渡謙介
• 申請（專利權）人: 日立環球儲存科技荷蘭有限公司
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 張煥生;謝麗娜

1.一種用于制造磁盤裝置的方法，其中，

把用于存儲數據的磁盤、用于寫入/讀取數據的磁頭以及用于使所述磁頭相對于所述磁盤運動的致動器收納在密封的殼體內；

在所述殼體中形成用來提供內部與外部之間連通的注氣口和排氣口；以及

在所述注氣口和排氣口處分別設置過濾器，

其中：

在所述注氣口處設置注射噴嘴；

在所述排氣口處設置吸嘴；以及

在借助于所述吸嘴從所述殼體內抽吸氣體的同時借助于所述注射噴嘴將置換氣體注入到所述殼體中，使得所述殼體內的氣體壓力不會降到低于在所述殼體內存在的有機化合物的蒸汽壓力。

2.根據權利要求1所述的用于制造磁盤裝置的方法，其中，借助于所述吸嘴從所述殼體內抽吸氣體，使得所述殼體內的氣體壓力不會降到低于大氣壓力。

3.根據權利要求1所述的用于制造磁盤裝置的方法，其中，檢測所述注射噴嘴內的氣體壓力和所述吸嘴內的氣體壓力，并且基于以下的公式1來獲得所述殼體內的氣體壓力：

[公式1]

(C1C2)2·(dindout)4=P2-P3P1-P2,]]>

在所述公式中，P₁是所述注射噴嘴內的氣體壓力，P₂是所述殼體內的氣體壓力，P₃是所述吸嘴內的氣體壓力，d_in是所述注氣口的直徑，d_out是所述排氣口的直徑，C₁是在所述注氣口處設置的過濾器的流率系數，以及C₂是在所述排氣口處設置的過濾器的流率系數。

4.根據權利要求1所述的用于制造磁盤裝置的方法，其中，在注入所述置換氣體的同時使所述磁盤旋轉。

5.根據權利要求1所述的用于制造磁盤裝置的方法，其中，所述置換氣體是密度比空氣低的低密度氣體。

6.根據權利要求5所述的用于制造磁盤裝置的方法，其中，將所述低密度氣體注入到所述殼體中，然后控制所述磁頭與致動器使得將伺服數據寫到所述磁盤。

7.根據權利要求5所述的用于制造磁盤裝置的方法，其中，在將低密度氣體注入到所述殼體中的同時獲取根據所述殼體內的所述低密度氣體的濃度改變的指標，從而估計所述殼體內的低密度氣體的濃度。

8.根據權利要求7所述的用于制造磁盤裝置的方法，其中，所述指標是為了使所述磁盤旋轉而供應至馬達的驅動電流的量值。

9.根據權利要求7所述的用于制造磁盤裝置的方法，其中，所述指標是所述殼體內的氧濃度。