[發(fā)明專利]定影裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010295629.5
• 申請日: 2010-09-27
• 公開（公告）號: CN102033474A
• 公開（公告）日: 2011-04-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 菊地和彥;木野內(nèi)聰;橫山秀治;功刀宏之;中山浩;岡野義明;高田節(jié)夫;曾根壽浩
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社東芝;東芝泰格有限公司
• 主分類號: G03G15/20
• 分類號: G03G15/20;H05B6/14
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

1.一種定影裝置，其特征在于，包括：

無縫狀的帶；

輥，與所述帶形成夾持；

支撐部件，在所述支撐部件與所述輥之間夾持所述帶；

線圈，為了在所述帶上感應(yīng)電流而產(chǎn)生磁場；

輔助發(fā)熱部件，在所述帶的環(huán)路中，利用通過所述磁場感應(yīng)的電流進(jìn)行發(fā)熱；以及

溫度檢測元件，隔著所述帶與所述輔助發(fā)熱部件相對，用于檢測所述帶的外周面的溫度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影裝置，其特征在于，

所述輔助發(fā)熱部件為沿所述帶的內(nèi)周面的圓弧形狀，且在所述帶的圓周方向上的至少一個端部延伸到不與所述線圈相對的非對置區(qū)域，

所述溫度檢測元件隔著所述帶與在所述非對置區(qū)域中的所述輔助發(fā)熱部件相對。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的定影裝置，其特征在于，所述非對置區(qū)域位于所述輔助發(fā)熱部件的上端側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的定影裝置，其特征在于，所述非對置區(qū)域位于只所述輔助發(fā)熱部件中與所述溫度檢測元件相對的位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影裝置，其特征在于，所述支撐部件位于所述帶內(nèi)側(cè)且靠近所述輥側(cè)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影裝置，其特征在于，還包括恒溫器，所述恒溫器的至少一部分位于所述帶的上方。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影裝置，其特征在于，所述輔助發(fā)熱部件包括分型層、包含導(dǎo)電材料的發(fā)熱層及均熱層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定影裝置，其特征在于，

在所述輥的旋轉(zhuǎn)軸方向上的所述均熱層的寬度小于在所述輥的旋轉(zhuǎn)軸方向上的所述線圈的寬度，且大于在所述輥的旋轉(zhuǎn)軸方向上的通過所述輥輸送的最大尺寸的薄片的寬度。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定影裝置，其特征在于，在所述輥的旋轉(zhuǎn)軸方向上的所述發(fā)熱層的寬度大于在所述輥的旋轉(zhuǎn)軸方向上的所述線圈的寬度。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定影裝置，其特征在于，在所述分型層、發(fā)熱層及均熱層中，所述分型層最接近于所述帶。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定影裝置，其特征在于，所述輔助發(fā)熱部件還包括輻射防護(hù)層，所述輻射防護(hù)層位于比所述分型層、發(fā)熱層及均熱層靠近所述支撐部件的一側(cè)。

12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定影裝置，其特征在于，所述均熱層包括熱管。

13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定影裝置，其特征在于，所述輻射防護(hù)層的熱傳導(dǎo)率小于所述發(fā)熱層及所述均熱層中任一個接近于所述支撐部件一側(cè)的層的熱傳導(dǎo)率。

14.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定影裝置，其特征在于，

所述輻射防護(hù)層的在所述帶側(cè)的表面為亮度大于所述發(fā)熱層及所述均熱層中任一個接近于所述支撐部件一側(cè)的層的在所述支撐部件側(cè)的表面的顏色。