[發明專利]納米碳化硅系紅外輻射涂料及其制備方法

無效

• 申請號: 201010293716.7
• 申請日: 2010-09-27
• 公開（公告）號: CN102417356A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 楊筠;李永;李江濤;李芳;劉貫重;章榮會
• 申請（專利權）人: 中國科學院理化技術研究所;北京聯合榮大工程材料有限責任公司
• 主分類號: C04B35/66
• 分類號: C04B35/66
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 李柏

1.一種納米碳化硅系紅外輻射涂料，其特征是，所述的涂料是由粉末輻射料、粘結料、漿料助劑和水組成，其中，水與粉末輻射料的重量比為0.5～2∶1，粘結料是粉末輻射料總重量的10％～30％，漿料助劑是粉末輻射料總重量的0.1％～3％；

以納米碳化硅粉末的重量份為基準，所述的粉末輻射料是由納米碳化硅粉末40～80重量份、氧化鋯粉末5～30重量份、氧化鉻粉末5～10重量份、氧化鐵粉末0～20重量份、氧化鎳粉末0～10重量份、膨潤土粉末1～10重量份和硅灰粉末1～10重量份組成；

所述的粘結料是硅溶膠、水玻璃和磷酸二氫鋁中的一種或兩種；

所述的漿料助劑包括分散劑和消泡劑。

2.根據權利要求1所述的納米碳化硅系紅外輻射涂料，其特征是：所述的納米碳化硅粉末的粒徑D₅₀為50～500nm。

3.根據權利要求1所述的納米碳化硅系紅外輻射涂料，其特征是：所述的氧化鋯粉末、氧化鉻粉末、氧化鐵粉末、氧化鎳粉末、膨潤土粉末和硅灰粉末的粒徑D₅₀都為1～2μm。

4.根據權利要求1所述的納米碳化硅系紅外輻射涂料，其特征是：所述的分散劑選自六偏磷酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉和陰離子型聚合物鹽中的一種。

5.根據權利要求4所述的納米碳化硅系紅外輻射涂料，其特征是：所述的陰離子型聚合物鹽為聚丙烯酸鈉或聚羧酸鈉。

6.根據權利要求1所述的納米碳化硅系紅外輻射涂料，其特征是：所述的消泡劑選自礦物油、有機硅和改性石蠟消泡劑中的一種或兩種。

7.一種根據權利要求1～6任意一項所述的納米碳化硅系紅外輻射涂料的制備方法，其特征是，該方法包括以下步驟：

(1)配料：

粉末輻射料混合物：以納米碳化硅粉末原料的重量份為基準，將納米碳化硅粉末原料40～80重量份、氧化鋯粉末原料5～30重量份、氧化鉻粉末原料5～10重量份、氧化鐵粉末原料0～20重量份、氧化鎳粉末原料0～10重量份、膨潤土粉末原料1～10重量份和硅灰粉末原料1～10重量份混合配制成粉末輻射料混合物；

液相混合物：按照水與上述粉末輻射料混合物總重量的重量比為0.5～2∶1，粘結料是粉末輻射料混合物總重量的10％～30％，漿料助劑是粉末輻射料混合物總重量的0.1％～3％，將水、粘結料和漿料助劑混合配制成液相混合物；

(2)均質化、細化處理：

將步驟(1)得到的粉末輻射料混合物與液相混合物全部充分混合在一起，并進行砂磨均質化處理；

(3)過濾：

將步驟(2)砂磨均質化處理后得到的產物過濾，即得到所述的涂料。

8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征是：步驟(2)中所述的進行砂磨均質化處理，采用的砂磨機械是高速分散機、臥式砂磨機、立式砂磨機或棒銷式砂磨機。

9.根據權利要求7所述的制備方法，其特征是：步驟(2)所述的進行砂磨均質化處理的時間為2～3小時。

10.根據權利要求7所述的制備方法，其特征是：所述的過濾是用325～400目篩網過濾。