[發明專利]壓印光刻

有效

• 申請號: 201010293681.7
• 申請日: 2010-09-26
• 公開（公告）號: CN102033424A
• 公開（公告）日: 2011-04-27
• 發明（設計）人: S·F·烏伊斯特爾
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;B29C43/36;B29C59/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種使用具有無機釋放層和可壓印介質層的襯底形成壓印模具的方法，所述方法包括：

使用主壓印模具將圖案壓印到可壓印介質中；

使可壓印介質固化；和

蝕刻可壓印介質和無機釋放層以在無機釋放層中形成圖案。

2.如權利要求1所述的方法，其中，硬掩模位于無機釋放層的頂部上，并且所述方法還包括蝕刻所述硬掩模。

3.如權利要求2所述的方法，其中，所述硬掩模由下列組中的一個形成：Cr、Mo、WSi、W、Al、Si或Ti。

4.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中，粘附層在可壓印介質層的下面，并且所述方法還包括刻蝕所述粘附層。

5.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中，所述主壓印模具由石英、熔融硅石、玻璃、YAG或CaF₂形成。

6.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中，所述襯底由石英、熔融硅石、玻璃、YAG或CaF₂形成。

7.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中，無機釋放層由下列組中的一個形成：SiN_x、AlN_x、TiN_x、TiO_x、AlO_x、TaO_x或GaN_x。

8.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中，所述蝕刻不貫穿無機層到襯底。

9.如前述權利要求中任一項所述的方法，還包括使用刻蝕以去除硬掩模。

10.一種壓印模具，包括襯底和無機釋放層，圖案存在于無機釋放層中，所述圖案已經使用蝕刻形成在無機釋放層內。

11.如權利要求10所述的壓印模具，其中，襯底是沒有圖案化的。

12.如權利要求10或11所述的壓印模具，其中，襯底由石英、熔融硅石、玻璃、YAG或CaF₂形成。

13.如權利要求10到12中任一項所述的壓印模具，其中，無機釋放層由下列組中的一個形成：SiN_x、AlN_x、TiN_x、TiO_x、AlO_x、TaO_x或GaN_x。