[發明專利]磁共振成像裝置

有效

• 申請號: 201010292692.3
• 申請日: 2010-09-25
• 公開（公告）號: CN102028468A
• 公開（公告）日: 2011-04-27
• 發明（設計）人: 坂倉良知
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝;東芝醫療系統株式會社
• 主分類號: A61B5/055
• 分類號: A61B5/055
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 李偉;王軼

技術領域

本發明涉及磁共振成像裝置。

相關申請的交叉引用

本申請基于2009年9月28日提交的日本專利申請No.2009-223239以及2010年8月17日提交的日本專利申請No.2010-182462并要求其優先權，其全部內容通過引用結合在本申請中。

背景技術

磁共振成像裝置為向靜磁場內放置的被檢體施加高頻磁場，檢測由于高頻磁場的施加從被檢體產生的磁共振信號從而生成圖像的裝置。該磁共振成像裝置具備通過向被檢體施加傾斜磁場，從而對磁共振信號附加空間位置信息的傾斜磁場線圈。

該傾斜磁場線圈由于在攝像中反復地供給脈沖電流而很大地發熱。特別是，近年來，隨著成像技術的高速化，傾斜磁場的通斷的高速化以及傾斜磁場的高強度化成為必須的，從而傾斜磁場線圈的發熱更加顯著。

并且，傾斜磁場線圈的發熱有可能對所攝像的圖像的畫質產生影響，對成為攝像對象的被檢體產生痛苦。因此，例如，提出了通過在傾斜磁場線圈的內部所設置的冷卻管中使冷媒循環，從而在攝像過程中使傾斜磁場線圈冷卻的技術(例如，參照日本特開2006-311957號公報)。

然而，在上述以往技術中，如以下說明，存在無法冷卻到傾斜磁場線圈的端部的課題。

圖10為用于說明使用冷卻管的以往技術的課題的圖。圖10示出了形成為大致圓筒狀的傾斜磁場線圈的一端的內部的情況。如圖10所示，例如，在傾斜磁場線圈1中，冷卻管2被設置為在沿著從傾斜磁場線圈1的一端向另一端的方向進入后向外周方向彎曲，然后，沿著傾斜磁場線圈1的圓筒形狀一邊呈螺旋狀卷繞一邊達到另一端。

這種情況下，例如，如圖10所示，在傾斜磁場線圈1的端部，形成侵入緊接之后冷卻管與第1圈的冷卻管所包圍的區域3。該區域3由于沒有配置冷卻管，因此無法通過冷媒被冷卻。其結果，例如，無法冷卻為了校正攝像區域內的靜磁場不均勻性而在傾斜磁場線圈1上配備的多個鐵墊片中的、被配備在傾斜磁場線圈1的端部的鐵墊片5。

另外，在以往技術中，也存在以提高傾斜磁場線圈的冷卻效率為目的，使多個冷卻管與傾斜磁場線圈并列卷繞的情況。那種情況下，在傾斜磁場線圈的端部，由于為了使多個冷卻管彎曲所需要的空間變得更加寬闊，因此無法冷卻的區域變得更大。

發明內容

本發明涉及的磁共振成像裝置，包括：傾斜磁場線圈、線圈冷卻管。傾斜磁場線圈向靜磁場內放置的被檢體施加傾斜磁場。線圈冷卻管被設置在上述傾斜磁場線圈上，通過使冷媒在管內流通從而冷卻上述傾斜磁場線圈。在此，上述線圈冷卻管被設置為在沿著從上述傾斜磁場線圈的一端向另一端的方向延伸后彎曲，并沿著上述傾斜磁場線圈的形狀返回到上述一端。

在下面的描述中將提出本發明的其它目的和優點，部分內容可以從說明書的描述中變得明顯，或者通過實施本發明可以明確上述內容。通過下文中詳細指出的手段和組合可以實現和得到本發明的目的和優點。

發明的效果

根據與實施方式相關的磁共振成像裝置，可以冷卻傾斜磁場線圈直到端部。

附圖說明

結合在這里并構成說明書的一部分的附圖描述本發明當前優選的實施方式，并且與上述的概要說明以及下面的對優選實施方式的詳細描述一同用來說明本發明的原理。

圖1為表示與實施例1相關的MRI裝置的結構的結構圖。

圖2為表示與實施例1相關的傾斜磁場線圈的構造的透視圖。

圖3為表示與實施例1相關的傾斜磁場線圈的內部構造的構造圖。

圖4為表示與實施例1相關的屏蔽線圈(shield?coil)側冷卻系統的整體結構的透視圖。

圖5為表示與實施例1相關的傾斜磁場線圈的一端的第1冷卻管以及第2冷卻管的配置的圖。

圖6為表示與實施例2相關的傾斜磁場線圈的構造的透視圖。

圖7為與實施例2相關的RF屏蔽物的外觀圖。

圖8為表示與實施例2相關的傾斜磁場線圈的內部構造的構造圖。

圖9為表示與實施例3相關的冷卻管的屏蔽線圈側冷卻系統的整體結構的透視圖。

圖10為用于說明使用冷卻管的以往技術的課題的圖。

具體實施方式

以下，根據附圖詳細說明與本發明相關的磁共振成像裝置(以下，稱為“MRI(Magnetic?Resonance?Imaging)裝置”)的實施例。另外，并不根據以下所示的實施例來限定本發明。另外，在以下所示的實施例中，針對作為用于冷卻傾斜磁場線圈的冷媒使用水(以下，稱為“冷卻水”)的情況進行說明。