[發明專利]模頭以及液體涂覆裝置

無效

• 申請號: 201010292467.X
• 申請日: 2010-09-25
• 公開（公告）號: CN102029242A
• 公開（公告）日: 2011-04-27
• 發明（設計）人: 堀川晃宏
• 申請（專利權）人: 松下電器產業株式會社
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/06;B05C11/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 張勁松

技術領域

本發明涉及將墨等液體涂覆在對象物上的規定位置的模頭(Die?Head)以及具有模頭的液體涂覆裝置。

背景技術

具有被稱為模頭(die?head)的擠壓(extrution)方式的頭的液體涂覆裝置能夠形成均勻的膜厚的涂覆膜，所以目前為止被廣泛用于各個領域。

模頭基本上包括：歧管，將從涂覆液罐提供的涂覆液，沿所要形成的涂覆膜的寬度方向進行分配；以及槽口(slot)，排出沿涂覆膜的寬度方向分配了的涂覆液。槽口也可以劃分為多個孔(參照圖9和圖10)。在將槽口劃分為多個孔時，能夠將涂覆液涂覆為條狀。

這樣的使用模頭將涂覆液涂覆到被涂覆材料上時，向模頭的前端部和被涂覆材料之間的間隔(以下也簡稱為“涂覆間隔”)排出涂覆液，并形成積存液；維持所形成的積存液(以下也稱為“液滴”(bead))，而且使被涂覆材料相對于模頭相對移動即可。這樣地維持在模頭的前端部和被涂覆材料之間形成的液滴，而且使被涂覆材料相對移動，由此在被涂覆材料上形成由涂覆液構成的涂覆膜。

在這樣的使用了模頭的涂覆工序中，維持液滴很重要。這是因為，若液滴不穩定，則形成在被涂覆材料上的涂覆膜的寬度以及膜厚出現偏差，或者涂覆膜中斷，從而不能夠進行高精度的涂覆。特別是，由于加快被涂覆材料的相對移動速度，對液滴施加的剪切力變大，或者為了防止模頭的前端部和被涂覆材料接觸而增大涂覆間隔時，液滴容易變得不穩定。這里，“液滴變得不穩定”是指液滴的形狀不穩定，或者液滴容易與被涂覆材料分離的狀態。液滴與被涂覆材料分離的狀態在下面也稱為“液滴被破壞”。

作為防止因剪切力而使液滴不穩定的方法一般已知有下述方法，即，在排出涂覆液的槽口(以下也簡稱為“液滴排出用槽口”)的被涂覆材料相對移動的方向(以下也簡稱為“移動方向”)的上游側設置氣體吸入用孔(Chamber)或氣體吸入用槽口，對液滴的移動方向上游側的端部(以下簡稱為“上游端”)附近進行減壓(例如參照專利文獻1)。

圖1A表示專利文獻1公開了的模頭的剖面圖。圖1A所示的模頭1的前端部包括：涂覆液排出用槽口2，其用于排出涂覆液；以及氣體吸入用槽口3，其用于吸入氣體。

氣體吸入用槽口3吸入氣體，由此能夠對液滴4的上游側附近6進行減壓，從而能夠將液滴4的上游端向被涂覆材料的相對移動方向X上游側吸入。由此，能夠防止由于被涂覆材料5的相對移動產生的剪切力而使液滴4不穩定的情況。

另外，如圖1B所示，也已知有在模頭的上游側設置氣體吸入用孔3’來代替氣體吸入用槽口3的技術。

另外，已知有下述技術，即，為了防止在被移動的被涂覆材料的表面發生氣流床(ENTRAINED-FLOW)，對被涂覆材料的表面噴出具有與被涂覆材料的移動方向相反方向的流向的氣體(例如參照專利文獻2～5)。

專利文獻1：(日本)特開2003-053233號公報

專利文獻2：(日本)特開平9-141170號公報

專利文獻3：(日本)特開昭62-186966號公報

專利文獻4：(日本)特開昭48-32923號公報

專利文獻5：美國專利第4842900號說明書

但是，如專利文獻1公開地那樣在對液滴4的上游端附近6進行減壓時，有時液滴4的上游端被吸入到氣體吸入用槽口3，構成液滴4的涂覆液流入氣體吸入用槽口3。

另外，由于涂覆中被涂覆材料的厚度變動、或模頭振動、涂覆間隔變動而使液滴4被破壞后，涂覆液流入氣體吸入用槽口3(氣體吸入用孔3’)(參照圖2A和圖2B)。特別是，在將涂覆液涂覆為條狀時，由于各個液滴變小所以液滴的穩定力降低，液滴容易被破壞。因此，在將涂覆液涂覆為條狀時，涂覆液特別容易流入氣體吸入用槽口。

若涂覆液流入氣體吸入用槽口內，則在氣體吸入用槽口內涂覆液妨礙氣體的流動，所以氣體吸入用槽口無法穩定地吸入氣體，液滴的上游側附近的氣壓變得不穩定。其結果，液滴不穩定，在被涂覆材料上形成的涂覆膜的厚度或寬度不均勻，或者中斷。

因此，在專利文獻1公開了的以往的液體涂覆裝置中，必須將從氣體吸入用槽口吸入的氣體的流量設定為較少的流量，以使涂覆液不流入氣體吸入用槽口。因此，在以往的液體涂覆裝置中，在因被涂覆材料的相對移動產生的剪切力變大時，無法防止液滴不穩定，并且加速涂覆速度有極限。

另外，在專利文獻1公開了的以往的液體涂覆裝置中，無法解決在增大了涂覆間隔時，液滴不穩定的問題。

發明的內容

本發明的目的在于，提供能夠維持液滴，并高精度且高速地涂覆涂覆液的模頭。