[發明專利]介質壁加速器加速單元無效
| 申請號: | 201010291481.8 | 申請日: | 2010-09-15 |
| 公開(公告)號: | CN102014569A | 公開(公告)日: | 2011-04-13 |
| 發明(設計)人: | 羅安雄 | 申請(專利權)人: | 四川省科學城久遠磁性材料有限責任公司 |
| 主分類號: | H05H7/22 | 分類號: | H05H7/22;H05H9/00 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214 | 代理人: | 卿誠;吳彥峰 |
| 地址: | 621000*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 介質 加速器 加速 單元 | ||
1.一種介質壁加速器加速單元,包括密封筒體(6),筒體(6)中間的加速管道(1),加速管道(1)中間形成貫通的加速通道(7),及安裝在筒體(6)內、位于加速管道(1)外側的加速脈沖形成裝置以及吸收、阻止電磁干擾裝置,其中粒子加速通道(7)為真空通道,加速管道(1)與筒體(6)之間的空間注入耐高壓絕緣介質,其特征在于加速管道(1)為絕緣介質束管道,加速脈沖形成裝置包括至少兩塊介質絕緣平板(4),每塊介質絕緣平板(4)上鍍有金屬電極(13),中間兩介質絕緣平板(4)之間設有高壓輸入端(3),高壓輸入端(3)與其中一介質絕緣平板(4)的金屬電極(13)之間接有半導體光導開關(2)。
2.根據權利要求1所述的介質壁加速器加速單元,其特征在于介質絕緣平板(4)為微波介質陶瓷板。
3.根據權利要求1所述的介質壁加速器加速單元,其特征在于介質絕緣平板(4)為疊加的四塊介質絕緣平板(4)構成,每塊介質絕緣平板(4)上均鍍有金屬電極(13),高壓輸入端(3)設在中間兩塊介質絕緣平板(4)之間,半導體光導開關(2)連接在高壓輸入端(3)與其中一塊介質絕緣平板(4)的金屬電極(13)之間,四塊介質絕緣平板(4)中外層兩塊介質絕緣平板(4)的特征阻抗為中間兩塊介質絕緣平板(4)特征阻抗的一半。
4.根據權利要求1所述的介質壁加速器加速單元,其特征在于安置在絕緣介質束管道(1)外側的介質絕緣平板(4)相對于被加速粒子為兩組對稱安置。
5.根據權利要求1所述的介質壁加速器加速單元,其特征在于吸收、阻止電磁干擾裝置為固定在筒體(6)側壁的絕緣層(12)和絕緣層(12)內側的吸波體(5)。
6.根據權利要求1所述的介質壁加速器加速單元,其特征在于吸波體(5)為鐵氧體。
7.根據權利要求1所述的介質壁加速器加速單元,其特征在于在筒體(6)上設有抽氣孔(8),抽氣孔(8)通向加速通道(7),筒體(6)設有注氣孔(10),注氣孔(10)通向介質束管道(1)與筒體(6)之間形成的空間。
8.根據權利要求1所述的介質壁加速器加速單元,其特征在于在筒體(6)上設有光纖入口(14),光纖入口(14)的光纖通到半導體光導開關(2)的激發端。
9.根據權利要求1所述的介質壁加速器加速單元,其特征在于在筒體(6)上設有測量孔(9),測量孔(9)內設置有加速電壓脈沖、束流大小和束心位置探測設備,其位于吸波體(5)內側,筒體(6)設有觀察孔(11),觀察孔(11)外設置光電觀察設備。
10.根據權利要求1所述的介質壁加速器加速單元,其特征在于半導體光導開關(2)為SiC半導體光導開關。
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