[發明專利]液晶顯示裝置、液晶顯示裝置的制造方法有效
| 申請號: | 201010288544.4 | 申請日: | 2010-09-15 |
| 公開(公告)號: | CN102023414A | 公開(公告)日: | 2011-04-20 |
| 發明(設計)人: | 都甲康夫;高橋泰樹 | 申請(專利權)人: | 斯坦雷電氣株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 黃綸偉;朱麗娟 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶 顯示裝置 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及液晶顯示裝置中的液晶分子的取向控制技術。
背景技術
作為制造液晶顯示裝置的要素技術之一有取向控制技術。以往,關于實現較高的預傾角(Pretilt?Angle)的技術,例如公知有日本特開平6-95115號公報(專利文獻1)公開的技術。但是,在使用專利文獻1公開的技術的情況下,雖然能夠獲得預期的0°~90°的預傾角,但在以下方面還存在有待改進的余地,即,由于使用各向異性干式蝕刻等,制造工藝復雜,加工費用高,同時由于需要許多材料(微粒、樹脂等),所以材料費用高。另外,根據專利文獻1的記載,利用形成為尖銳形狀的突起體或針狀體的形狀作用來進行取向控制,而突起體等是比較細微的部件,認為很難高精度地控制這些部件的形狀。因此,認為根據突起體等的形狀效果,很難在較廣的范圍內控制預傾角。
【先行技術文獻】
【專利文獻】
【專利文獻1】日本特開平6-95115號公報
發明內容
本發明的具體方式的目的之一在于,提供能夠在較廣范圍內設定液晶分子的預傾角的新技術。
本發明的一個方式的液晶顯示裝置包括:(a)將彼此的一面對置配置的第1基板及第2基板;(b)設于所述第1基板的所述一面側的第1取向限制層;(c)設于所述第2基板的所述一面側的第2取向限制層;(d)以及設于所述第1基板和所述第2基板相互之間的液晶層。所述第1取向限制層或所述第2取向限制層的至少一方具有:(e)取向膜;(f)設于所述取向膜上并與所述液晶層接觸的液晶性聚合物膜。
在上述的液晶顯示裝置中,能夠利用受到下側取向膜的作用而均勻取向的液晶性聚合物層,對與該液晶性聚合物層接觸設置的液晶層的液晶分子賦予較高的預傾角。取向膜和液晶性聚合物層都能夠容易利用比較簡單的裝置及工藝制造,而且通過改變此時的材料和形成條件,能夠在較廣范圍內控制預傾角,這已得到本申請發明人確認。
優選所述取向膜是水平取向膜。
優選所述液晶性聚合物膜是通過光照射使光固化型液晶性單體膜聚合物化的膜。
本發明的一個方式的液晶顯示裝置的制造方法包括:(a)第1步驟,在第1基板的一面形成第1取向限制層;(b)第2步驟,將所述第1基板和第2基板配置成使彼此的一面對置;(c)第3步驟,在所述第1基板和所述第2基板之間形成液晶層。所述第1步驟包括:(d)在所述第1基板的一面上形成取向膜的步驟;(e)在所述取向膜上形成光固化型液晶性單體膜的步驟;(f)通過對所述光固化型液晶性單體膜進行光照射來形成液晶性聚合物膜的步驟。
根據這種制造方法,能夠在較廣范圍內設定液晶層中的液晶分子的預傾角,并制造液晶顯示裝置。
附圖說明
圖1是示意地表示一個實施方式的液晶顯示元件中的取向限制層的原理及制造方法的圖(剖面圖)。
圖2是示意地表示具有實施方式涉及的取向限制層的液晶顯示裝置的結構示例的剖面圖。
圖3是詳細說明利用構成取向限制層的液晶性聚合物實現的光學補償功能的圖。
圖4是表示涂敷液晶性單體膜后的放置時間與預傾角的關系的圖。
圖5是表示光照射量與預傾角的關系的圖。
標號說明
10、10a、10b基板;12、12a、12b取向膜;13光固化型液晶性聚合物膜;14液晶性聚合物膜;16液晶分子;17界面;18液晶層。
具體實施方式
下面,參照附圖說明本發明的實施方式。
圖1是示意地表示適用了本發明的一個實施方式的液晶顯示元件中的取向限制層的原理及制造方法的圖(剖面圖)。另外,為了便于說明,省略表示剖面的陰影的描畫。本實施方式的取向限制層是指能夠對與其接觸設置的液晶層內的液晶分子取向施加限制力的功能層,基本構成包括取向膜和形成于該取向膜上的液晶性聚合物膜。下面,進行更加詳細的說明。
首先,在玻璃基板等基板10的一面上形成有由聚酰亞胺等有機高分子膜構成的取向膜12(圖1(A))。例如,利用旋涂等方法在基板10的一面上涂敷液狀的取向膜材料,然后實施適當的熱處理,由此得到取向膜12。在本實施方式中,取向膜12采用將液晶分子取向限制為水平取向,而且具有提供較低的預傾角(例如幾度)的能力的膜(水平取向膜)。另外,朝圖中箭頭指示的方向實施摩擦(ヘラビング)處理。另外,也可以實施能夠取代摩擦處理的其他表面處理(例如光取向處理)。另外,取向膜12也可以采用利用所謂傾斜蒸鍍法形成的氧化硅膜等無機膜。并且,還可以在基板10的一面上設置采用透明導電膜等的電極(省略圖示)。
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