[發(fā)明專利]記錄裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010286655.1 | 申請日: | 2010-09-17 |
| 公開(公告)號: | CN102019769A | 公開(公告)日: | 2011-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尾崎千馬;野村和也;雙松保雄 | 申請(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | B41J11/00 | 分類號: | B41J11/00;B41J2/01 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225 | 代理人: | 黃威;孫麗梅 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 記錄 裝置 | ||
1.一種記錄裝置,其具備被記錄材料支承部,該被記錄材料支承部用于支承被供給至記錄執(zhí)行區(qū)域的被記錄材料,并對該被記錄材料的輸送進(jìn)行引導(dǎo),其特征在于,所述被記錄材料支承部具備:
支承部,其用于支承被供給至記錄執(zhí)行區(qū)域的所述被記錄材料,并規(guī)定其與記錄頭之間的預(yù)定間隙;
抽吸槽,其被凹設(shè)在所述支承部的支承面上;
抽吸開口,其被形成在所述抽吸槽內(nèi),并與抽吸源連通;
可動吸附部,其被配置在所述抽吸槽內(nèi),并具有抽吸孔,
所述可動吸附部被構(gòu)成為,在所述被記錄材料被供給之前,所述可動吸附部位于高于所述支承部的支承高度的上限位置,而在所述被記錄材料已被供給后,所述抽吸孔被該被記錄材料堵塞,并通過所述抽吸源的抽吸而形成負(fù)壓空間,所述可動吸附部由于該負(fù)壓的作用,移動至等于或低于所述支承部的支承高度的下限位置。
2.如權(quán)利要求1所述的記錄裝置,其特征在于,所述可動吸附部被構(gòu)成為,具備:
平板狀的受壓部,其形成有所述抽吸孔;
受壓薄膜,其以覆蓋所述受壓部的邊緣部與所述抽吸槽的邊緣部之間的空間的方式被設(shè)置,并且能夠彎曲變形。
3.如權(quán)利要求1所述的記錄裝置,其特征在于,所述可動吸附部被構(gòu)成為,具備:
平板狀的受壓部,其形成有所述抽吸孔;
筒狀的折皺部,其被設(shè)置在從所述受壓部的邊緣部直到所述抽吸槽的底部的位置上。
4.如權(quán)利要求1所述的記錄裝置,其特征在于,所述可動吸附部被構(gòu)成為,具備:
帽狀的受壓筒體,所述帽狀的受壓筒體具備:平坦的受壓部,其形成有所述抽吸孔;側(cè)胴部,其被形成為,從該受壓部的邊緣部向所述抽吸槽的底部延伸。
5.如權(quán)利要求1~4中任意一項(xiàng)所述的記錄裝置,其特征在于,
所述可動吸附部被構(gòu)成為,通過施力構(gòu)件的施力而移動至所述上限位置。
6.如權(quán)利要求1~5中任意一項(xiàng)所述的記錄裝置,其特征在于,
在所述可動吸附部與所述抽吸槽的任意一方或雙方上設(shè)置有抵接部,所述抵接部用于設(shè)定可動吸附部的所述上限位置與下限位置的任意一方或雙方。
7.如權(quán)利要求1~6中任意一項(xiàng)所述的記錄裝置,其特征在于,
在所述可動吸附部的邊緣部與所述抽吸槽的邊緣部之間,形成有用于填埋兩者的階梯差的引導(dǎo)傾斜面。
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