[發(fā)明專利]一種對準(zhǔn)系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010286110.0 | 申請日: | 2010-09-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102402140A | 公開(公告)日: | 2012-04-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 杜聚有 | 申請(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備有限公司;上海微高精密機(jī)械工程有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F9/00 | 分類號(hào): | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光輝 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 對準(zhǔn) 系統(tǒng) | ||
1.一種對準(zhǔn)系統(tǒng),包括:
光源模塊,提供對準(zhǔn)系統(tǒng)所需的對準(zhǔn)光束,所述對準(zhǔn)光束至少具有兩個(gè)傳播方向;
光學(xué)條紋形成裝置,接收上述不同方向的對準(zhǔn)光束,形成第一光學(xué)條紋;
光學(xué)模塊,接收上述第一光學(xué)條紋,形成具有和下述對準(zhǔn)標(biāo)記相同的周期和方向的第二光學(xué)條紋,并接收所述第二光學(xué)條紋照射到下述對準(zhǔn)標(biāo)標(biāo)記后形成的衍射光束;
對準(zhǔn)標(biāo)記,具有一定的周期,至少向兩個(gè)方向排列,其能接收第二光學(xué)條紋,并使其發(fā)生衍射;
光電探測器,設(shè)置在光學(xué)模塊和光學(xué)條紋形成裝置之間,接收并測量上述第二光學(xué)條紋經(jīng)上述對準(zhǔn)標(biāo)記衍射后的光束的強(qiáng)度,利用光強(qiáng)變化反映的位相信息確定對準(zhǔn)位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于:所述光學(xué)模塊為具有遠(yuǎn)心光路的透鏡結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于:所述光電探測器設(shè)置在所述透鏡結(jié)構(gòu)的頻譜面上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于:所述光學(xué)條紋形成裝置為半透半反平板或振幅光柵。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于:所述半透半反平板厚度和傾斜角度滿足如下公式
其中d為第二光學(xué)條紋周期,f為光學(xué)模塊焦距,λ為照明光束波長,N為半反半透平板的折射率,h為半反半透平板厚度,θ為半反半透平板相對照明光束所在平面的傾斜角度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于:所述對準(zhǔn)光束具有兩個(gè)相互垂直的傳播方向。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于:所述對準(zhǔn)標(biāo)記具有至少一組相互垂直的相位光柵,光學(xué)條紋照射到對準(zhǔn)標(biāo)記上后在互相垂直的兩個(gè)方向上形成衍射光束,在對準(zhǔn)標(biāo)記與對準(zhǔn)系統(tǒng)相對運(yùn)動(dòng)的過程中,利用探測器陣列測量相互垂直的兩個(gè)方向上的衍射光束的強(qiáng)度,利用光強(qiáng)變化反映的位相信息確定對準(zhǔn)位置,當(dāng)光強(qiáng)最大時(shí)即為對準(zhǔn)位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任意一個(gè)所述的對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于:所述衍射光束具有一個(gè)以上衍射級(jí)次,每個(gè)衍射級(jí)次對應(yīng)至少兩個(gè)相同的掃描信號(hào),這兩個(gè)掃描信號(hào)相互矯正,合并形成一個(gè)矯正后的掃描信號(hào)。
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