[發明專利]光致抗蝕劑組合物

無效

• 申請號: 201010284062.1
• 申請日: 2010-09-13
• 公開（公告）號: CN102023483A
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發明（設計）人: 增山達郎;畑光宏
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/00;C07C271/22;C07D207/16
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 柳春琦

1.一種光致抗蝕劑組合物，其包含樹脂、酸生成劑和由式(I)表示的化合物：

其中R¹表示可以具有一個或多個羥基的C2-C12烷基或可以具有一個或多個羥基的C7-C12芳烷基，并且所述烷基和芳烷基中的一個或多個-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，

R²和R³各自獨立表示氫原子或可以具有一個或多個羥基的C1-C12烷基，并且所述烷基中的一個或多個-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，并且R¹和R²可以彼此結合以與R¹和R²所結合的碳原子一起形成C3-C36環，并且所述環可以具有一個或多個羥基并且所述環中的一個或多個-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，

R⁴，R⁵和R⁶各自獨立表示氫原子，C1-C6烷基，C3-C12飽和環烴基，C6-C12芳烴基或C5-C9雜芳基，并且R⁴和R⁵可以彼此結合以與R⁴和R⁵所結合的-CH-N-一起形成C5-C6雜環，并且所述烷基可以具有一個或多個取代基，所述的取代基選自由下列組成的組：-OH，-SH，-NH₂，C3-C12飽和環烴基，C6-C12芳烴基或C5-C9雜芳基，并且所述烷基中的一個或多個-CH₂-可以被-O-，-S-，-CO-，-C(＝NH)或-NH-代替，并且所述飽和環烴基、所述芳烴基和所述雜芳基可以具有一個或多個取代基，所述的取代基選自由下列組成的組：-OH，-CO-R⁷，-O-CO-R⁷和-CO-O-R⁷，其中R⁷表示C1-C6烷基，并且

A¹表示單鍵或C1-C2亞烷基，所述C1-C2亞烷基中的一個或多個-CH₂-可以被-O-代替。

2.根據權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中在式(I)中，R¹是乙基并且R²和R³是甲基。

3.根據權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中在式(I)中，R⁴是氫原子。

4.根據權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述樹脂具有酸不穩定基團，并且不溶或難溶于堿性水溶液，但是通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液。

5.一種用于制造光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括下列步驟(1)至(5)：

(1)將根據權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物涂覆到基底上的步驟，

(2)通過進行干燥形成光致抗蝕劑膜的步驟，

(3)將所述光致抗蝕劑膜曝光于輻射的步驟，

(4)將曝光后的光致抗蝕劑膜烘焙的步驟，和

(5)將烘焙后的光致抗蝕劑膜用堿性顯影劑顯影，從而形成光致抗蝕劑圖案的步驟。

6.一種由式(I-A)表示的化合物：

其中A¹⁰表示亞甲基，R⁵⁰表示C1-C6烷基并且R⁶⁰表示苯基或具有-COOR⁷⁰的苯基，其中R⁷⁰表示C1-C6烷基。

7.一種由式(I-12)，(I-20)或(I-110)表示的化合物：