[發明專利]一種改進的催化裂化催化劑兩段再生方法及設備有效
| 申請號: | 201010279631.3 | 申請日: | 2010-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN101982225A | 公開(公告)日: | 2011-03-02 |
| 發明(設計)人: | 張永民;盧春喜;劉英聚;叢森滋 | 申請(專利權)人: | 中國石油大學(北京) |
| 主分類號: | B01J8/00 | 分類號: | B01J8/00;B01J38/02 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 韓蕾 |
| 地址: | 102249*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 改進 催化裂化 催化劑 再生 方法 設備 | ||
1.一種催化裂化催化劑兩段再生設備,該設備包括串聯設置的燒焦罐再生段以及密相環流床層再生段,其中,
所述燒焦罐再生段底部至少設置有待生催化劑入口及燒焦罐主風入口,頂部設置多孔板式分布器,以使待生催化劑與燒焦罐主風在該燒焦罐再生段中發生燃燒反應后產生的煙氣及其攜帶的催化劑經過所述多孔板式分布器進入密相環流床層再生段;
所述密相環流床層再生段頂部設置煙氣出口,底部密相段內設置一隔流筒,將密相環流床層再生段分為中心區與外環區兩個區;外環區底部設置再生催化劑出口;
并且,該催化裂化催化劑兩段再生設備設置有將部分密相環流床層催化劑返回燒焦罐再生段底部的循環管路。
2.根據權利要求1所述的催化裂化催化劑兩段再生設備,其中,所述密相環流床層再生段中心區與外環區的截面積之比為1~2∶1;所述密相環流床層再生段隔流筒為圓形隔流筒,其直徑為燒焦罐再生段頂部設置的板式分布器直徑的1.0~1.5倍,以使燒焦罐再生段產生的煙氣及其攜帶的催化劑經過所述多孔板式分布器大部分進入密相環流床層再生段的中心區。
3.根據權利要求1所述的催化裂化催化劑兩段再生設備,其中,所述將密相環流床層催化劑返回燒焦罐再生段底部的循環管路是從密相環流床層再生段外環區底部引出部分催化劑,并從燒焦罐再生段底部引入燒焦罐再生段內,且該循環管路上設置催化劑流量調控閥。
4.根據權利要求1所述的催化裂化催化劑兩段再生設備,其中,所述燒焦罐再生段頂部設置的多孔板式分布器為凸形板式分布器或凹形板式分布器;所述密相環流床層再生段外環區底部設置環形氣體分布器,用以向密相環流床層再生段外環區通入主風。
5.根據權利要求1所述的催化裂化催化劑兩段再生設備,其中,所述燒焦罐再生段底部向下延伸連接有稀相輸送管,燒焦罐主風以及待生催化劑均首先進入稀相輸送管底部,再一并進入到燒焦罐再生段中。
6.一種催化裂化催化劑兩段再生方法,該方法中是利用權利要求1~5任一項所述的設備進行催化裂化催化劑再生,該方法包括:
將含焦炭的待生催化劑從燒焦罐再生段的底部引入燒焦罐再生段,并引入一股燒焦罐主風,待生催化劑上的焦炭與燒焦罐主風接觸發生燃燒反應生成煙氣,反應生成的煙氣及其攜帶的催化劑上行經過所述燒焦罐再生段頂部的多孔板式分布器的分布孔進入密相環流床層再生段;
控制密相環流床層再生段中心區與外環區內不同的表觀氣速度而使催化劑顆粒在兩個區之間形成內循環流動,從而使催化劑在密相環流床層再生段內進一步得到高效的再生,部分催化劑從密相環流床層再生段外環區底部引出返回至燒焦罐再生段底部以調節燒焦罐再生段內操作溫度和顆粒濃度。
7.根據權利要求6所述的催化裂化催化劑兩段再生方法,其中,所述燒焦罐再生段內表觀氣速為1.0~3.0m/s,操作溫度630~740℃,催化劑停留時間0.5~1.2min;所述密相環流床層再生段操作溫度680~750℃,催化劑停留時間1.0~2.0min。
8.根據權利要求6或7所述的催化裂化催化劑兩段再生方法,其中,在密相環流床層再生段外環區底部引入另一股主風進入外環,該股主風流量占催化裂化催化劑兩段再生設備主風總流量的1~15%,對應表觀氣速0.02~0.2m/s。
9.根據權利要求6所述的催化裂化催化劑兩段再生方法,其中,所述燒焦罐再生段頂部的板式分布器為低壓降分布器,其壓降為2~7kPa。
10.根據權利要求6所述的催化裂化催化劑兩段再生方法,其中,所述燒焦罐再生段底部向下延伸連接有稀相輸送管,燒焦罐主風以及待生催化劑均首先進入稀相輸送管底部,再一并進入到燒焦罐再生段中,該方法中控制稀相輸送管的氣速為3~7m/s。
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