[發(fā)明專利]攝像單元和攝像設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010278981.8
• 申請(qǐng)日: 2010-09-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102012610A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 淺井良和;酒井正憲
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03B17/02
• 分類號(hào): G03B17/02;G03B11/04;H04N5/225;G03B19/12
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種包括設(shè)置于光軸的光學(xué)元件和由保持構(gòu)件保持的圖像傳感器的攝像單元，并且涉及包括該攝像單元的攝像設(shè)備。

背景技術(shù)

諸如數(shù)字照相機(jī)等將被攝體像轉(zhuǎn)換成電信號(hào)的攝像設(shè)備在圖像傳感器上接收被攝體像的光束。另外，攝像設(shè)備將從圖像傳感器輸出的電信號(hào)轉(zhuǎn)換成圖像數(shù)據(jù)。此外，攝像設(shè)備將所得到的圖像數(shù)據(jù)記錄在諸如儲(chǔ)存卡等記錄介質(zhì)中。作為圖像傳感器，通常使用電荷耦合器件(CCD)傳感器或互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)傳感器。

這樣的攝像設(shè)備包括設(shè)置于圖像傳感器的被攝體側(cè)的光學(xué)低通濾波器和紅外線截止濾波器(cut?filter)。如果諸如灰塵等異物附著于濾波器的表面，則所附著的異物可能將出現(xiàn)在所捕獲的圖像上。在該情況下，圖像質(zhì)量將劣化。

尤其地，在包括可替換的鏡頭單元的數(shù)字單鏡頭反光照相機(jī)中，諸如快門或快速回位鏡等機(jī)械操作單元設(shè)置于圖像傳感器的附近。因此，來(lái)自操作單元的諸如灰塵等異物可能會(huì)附著于圖像傳感器或?yàn)V波器的表面。另外，在更換鏡頭單元的操作的過(guò)程中，諸如灰塵等異物可能會(huì)經(jīng)由鏡頭安裝部的開(kāi)口進(jìn)入照相機(jī)主體內(nèi)。在該情況下，所侵入的異物可能會(huì)附著于圖像傳感器或?yàn)V波器的表面。

為了防止上述現(xiàn)象的出現(xiàn)，日本特開(kāi)2008-26564號(hào)公報(bào)公開(kāi)了一種方法：其利用壓電元件使光學(xué)元件振動(dòng)，從而去除附著于設(shè)置在圖像傳感器的被攝體側(cè)的光學(xué)元件表面的諸如灰塵等異物。

更具體地，日本特開(kāi)2008-26564號(hào)公報(bào)中所公開(kāi)的方法包括被構(gòu)造成使設(shè)置在光軸上的光學(xué)元件以波狀方式振動(dòng)的振動(dòng)單元。另外，上述傳統(tǒng)方法通過(guò)使光學(xué)元件以兩個(gè)以上的振動(dòng)節(jié)點(diǎn)共振而去除附著于光學(xué)元件表面的灰塵或者異物。

然而，在日本特開(kāi)2008-26564號(hào)公報(bào)中所公開(kāi)的方法中，由鏡箱支撐的圖像傳感器保持構(gòu)件被獨(dú)立于支撐包括振動(dòng)單元的光學(xué)元件的光學(xué)元件保持構(gòu)件設(shè)置。因此，在該情況下，所需部件的數(shù)目將變大。另外，在該情況下，用于組裝照相機(jī)的工時(shí)的數(shù)目也將變大。

另外，由于光學(xué)元件單元和圖像傳感器單元被雙面粘合橡膠片材密封，所以在返工時(shí)很難剝離雙面粘合橡膠片材。

發(fā)明內(nèi)容

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種設(shè)備，其包括：圖像傳感器單元；保持構(gòu)件，其被構(gòu)造成將圖像傳感器單元保持在保持構(gòu)件的拍攝者側(cè)和將光學(xué)構(gòu)件保持在保持構(gòu)件的被攝體側(cè)；第一密封構(gòu)件，其被構(gòu)造成：當(dāng)圖像傳感器單元被安裝于保持構(gòu)件時(shí)，第一密封構(gòu)件通過(guò)密封圖像傳感器單元和保持構(gòu)件之間而形成密閉的空間，第一密封構(gòu)件位于保持構(gòu)件的拍攝者側(cè)；以及第二密封構(gòu)件，其被構(gòu)造成：當(dāng)光學(xué)構(gòu)件被安裝于保持構(gòu)件時(shí)，第二密封構(gòu)件通過(guò)密封光學(xué)構(gòu)件和保持構(gòu)件之間而形成密閉的空間，第二密封構(gòu)件位于保持構(gòu)件的被攝體側(cè)。

從以下參照附圖對(duì)示例性實(shí)施方式的詳細(xì)說(shuō)明，將使本發(fā)明的其他特征和方面變得明顯。

附圖說(shuō)明

包含在說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分，且示出本發(fā)明的示例性實(shí)施方式、特征和方面的附圖與文字描述一起用于解釋本發(fā)明的原理。

圖1是從前面觀察的根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實(shí)施方式的數(shù)字單鏡頭反光照相機(jī)的立體圖。

圖2是從后面觀察的根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實(shí)施方式的數(shù)字單鏡頭反光照相機(jī)的立體圖。

圖3是示出根據(jù)第一示例性實(shí)施方式的數(shù)字單鏡頭反光照相機(jī)的示例性電氣構(gòu)造的方塊圖。

圖4是示出照相機(jī)的示例性內(nèi)部構(gòu)造的分解立體圖，其主要示出了用于保持根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實(shí)施方式的照相機(jī)中所包括的攝像單元的示例性構(gòu)造。

圖5A和圖5B示出了根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實(shí)施方式的攝像單元的示例性構(gòu)造的分解立體圖。

圖6示出了壓電元件的示例。

圖7的(A)和(B)示出了根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實(shí)施方式的攝像單元中所包括的保持構(gòu)件和密封構(gòu)件的示例。

圖8A和圖8B是示出根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實(shí)施方式的攝像單元中所包括的圖像傳感器單元的示例的分解立體圖。

圖9A和圖9B是示出根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實(shí)施方式的攝像單元中所包括的光學(xué)低通濾波器的示例的分解立體圖。

圖10是示出用于去除附著于光學(xué)低通濾波器表面的諸如灰塵等異物的處理的示例的流程圖。

圖11示出了本發(fā)明的第一示例性實(shí)施方式的變型例。

圖12是示出照相機(jī)的示例性內(nèi)部構(gòu)造的分解立體圖，其主要示出了用于保持根據(jù)本發(fā)明的第二示例性實(shí)施方式的照相機(jī)中所包括的攝像單元的示例性構(gòu)造。

圖13A和圖13B是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二示例性實(shí)施方式的攝像單元的示例性構(gòu)造的分解立體圖。