[發(fā)明專利]L/S/X三波段雙極化平面天線陣有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010275940.3 | 申請日: | 2010-09-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101982900A | 公開(公告)日: | 2011-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鐘順時(shí);孫竹;孔令兵 | 申請(專利權(quán))人: | 上海大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01Q1/38 | 分類號(hào): | H01Q1/38;H01Q13/08;H01Q21/24;H01Q21/30 |
| 代理公司: | 上海上大專利事務(wù)所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 何文欣 |
| 地址: | 200444*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波段 極化 平面 天線陣 | ||
1.一種L/S/X三波段雙極化平面天線陣包括兩幅L/X、L/S共口徑雙波段雙極化天線子陣(1、3)和一幅L波段雙極化子陣(2),其特征在于:
a.采用子陣拼接的技術(shù),將兩幅所述L/X、L/S共口徑雙波段雙極化天線子陣(1、3)與一幅L波段雙極化子陣(2)組成一個(gè)L/S/X三波段雙極化平面天線陣;
b.所述兩個(gè)雙波段雙極化天線子陣(1,3)均采用了疊層微帶貼片(4,5)與印刷偶極子(6,7)交織的布陣方式,在三個(gè)波段均采用了“成對反相激勵(lì)”技術(shù)以提高全陣的交叉極化性能;子陣陣面排布時(shí)L波段振子(6,7)采用“T”字型分布以提高極化隔離度,且水平/垂直極化振子采用了不同的單元數(shù)量以保證水平與垂直極化的相位中心重合;
c.兩幅子陣的疊層貼片(4,5)的結(jié)構(gòu)均為:X波段驅(qū)動(dòng)貼片(24)、S波段驅(qū)動(dòng)貼片(28)分別置于第六基片(23)、第三基片(16)的上側(cè),X波段寄生貼片(25)、S波段寄生貼片(29)分別置于第五基片(21)、第二基片(14)的下側(cè),第五基片(21)與第六基片(23)、第二基片(14)與第三基片(16)分別由第五泡沫層(22)和第二泡沫層(15)隔開;直接采用探針激勵(lì)(26,30)的方式進(jìn)行饋電,降低了工藝復(fù)雜性;且在S、X波段的驅(qū)動(dòng)貼片(24,28)上引入隔離槽(8,27),以改善目標(biāo)頻帶內(nèi)的極化隔離度性能;
d.L/S子陣的L波段偶極子(6)嵌入在S波段疊層貼片(4)的空隙中,由第三基板(16)上側(cè)的饋網(wǎng)(11)、貫穿第一、第二、第三3層基板(12,14,16)和第一、第二兩層泡沫層(13,15)的垂直過渡平行金屬雙線(10)、位于第一基板(12)下側(cè)的印刷偶極子組成;
e.L單波段子陣及L/X子陣的偶極子(7)結(jié)構(gòu)與(6)結(jié)構(gòu)相似,區(qū)別僅在于饋網(wǎng)所在的基板(16,18,23)厚度不同,其饋網(wǎng)的匹配枝節(jié)線(11)的參數(shù)和偶極子長度也有所變化;
f.為了避免子陣分割時(shí)切割到L波段垂直極化偶極子(6),在饋網(wǎng)中引入了電抗性,使得偶極子長度縮短約20%,因而解決了3∶1頻率比下子陣拼接中引入的L波段掃描能力限制這一問題。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的L/S/X三波段雙極化平面天線陣,其特征在于所述的兩幅子陣(1,3)的高頻輻射單元的泡沫層(15,22)厚度(hf)范圍為所在頻段的中心頻率波長的5%-12%,即X波段1.5mm-3.6mm;S波段4.2mm-10.5mm,下貼片邊長(l_a、l_b)為X波段:6mm-10mm,S波段:18mm-28mm,上下貼片邊長比(u_a/l_a、u_b/l_b)為1.05-1.3。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的L/S/X三波段雙極化平面天線陣,其特征在于L波段印刷偶極子(6,7)、平行雙線饋電及balun饋網(wǎng)一體化(11)的上層泡沫層(13,20)厚度(hf1)為所在頻段的中心頻率波長的15%-27%,即36-65mm;L/S子陣L波段偶極子(6)長度為80-120mm,L/X子陣L波段偶極子(7)長度為100-140mm;饋網(wǎng)(11)的長度(f1)為65-95mm;匹配枝節(jié)線長度(t)為:L/S子陣16-28mm,L/X子陣1-12mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的L/S/X三波段雙極化平面天線陣,其特征在于所述基板(12、14、16、19、21、23、19、18)的相對介電常數(shù)(εr)為2~5,其介質(zhì)損耗角正切(tgδ)小于或等于0.002;泡沫層(13,15,17,20,22)相對介電常數(shù)(εr)為1~1.1。
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