[發(fā)明專利]高真空密封有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010275775.1 | 申請日: | 2010-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN102011867A | 公開(公告)日: | 2011-04-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | S·H·L·范登布姆;R·W·P·瓊克斯;H·F·M·范登布姆;R·J·德格魯特;P·H·T·J·烏蘭 | 申請(專利權(quán))人: | FEI公司 |
| 主分類號: | F16J15/48 | 分類號: | F16J15/48 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 原紹輝;楊楷 |
| 地址: | 美國俄*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 密封 | ||
1.一種使用密封組件以形成高真空密封的方法,所述密封組件包括:
要密封連接在一起的第一部件(101)和第二部件(103),
在第一部件與第二部件之間的腔室中的O形圈(110),所述O形圈密封所述第一部件和所述第二部件,和
用于減少水滲透通過所述O形圈的裝置,
其特征在于,
用于減少水滲透通過所述O形圈的裝置表現(xiàn)為以下形式,即將O形圈在工作中不暴露在真空中或被壓靠在所述第一部件或所述第二部件上的部分(114)暴露在干燥氣體中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述O形圈(110)的材料是聚合物。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中所述干燥氣體的水含量少于0.1g/m3。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中所述干燥氣體為干燥氮?dú)狻?/p>
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中所述干燥氣體通過圍繞所述O形圈的通道與所述O形圈接觸,所述通道在所述部件的至少一個(gè)中形成,所述通道顯示具有進(jìn)口(200)和出口(201)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中在所述通道中有所述干燥氣體的流動。
7.執(zhí)行前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法的密封組件,所述密封組件包括:要密封連接在一起的第一部件(101)和第二部件(103),裝配在所述第一部件與所述第二部件之間的腔室中的O形圈(110),所述O形圈密封所述第一部件和所述第二部件,
其特征在于:
所述密封組件包括用于將干燥氣體供應(yīng)到所述O形圈的通道,以及將所述干燥氣體供應(yīng)到所述通道的進(jìn)口(200)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的密封組件,其中所述密封組件進(jìn)一步顯示具有與所述通道接觸的出口(201)。
9.配備有根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的密封組件的設(shè)備。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,包括多個(gè)根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的密封組件,其中所述通道連續(xù)地連接。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的設(shè)備,其中與所述通道或所述多條通道連續(xù)地連接的壓力調(diào)節(jié)器用以調(diào)節(jié)通過所述通道或所述多條通道的流量。
12.根據(jù)權(quán)利要求8-10中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述設(shè)備是粒子光學(xué)設(shè)備。
13.根據(jù)權(quán)利要求8-12中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述設(shè)備是低溫設(shè)備。
14.根據(jù)權(quán)利要求8-13中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述設(shè)備被封閉在罩殼內(nèi),且所述多條通道的一個(gè)或多個(gè)出口被供給到所述罩殼的外部以避免發(fā)生窒息的風(fēng)險(xiǎn)。
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