[發(fā)明專利]抑制大尺寸片狀激光釹玻璃放大自發(fā)輻射的方法

有效

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• 申請日: 2010-09-06
• 公開（公告）號: CN101976796A
• 公開（公告）日: 2011-02-16
• 發(fā)明（設計）人: 孟濤;唐景平;胡俊江;溫磊;陳力;陳偉;胡麗麗
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: H01S3/08
• 分類號: H01S3/08;H01S3/10
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 張澤純

1.一種抑制大尺寸片狀激光釹玻璃放大自發(fā)輻射的方法，其特征在于該方法包括下列步驟：

(一)選取與所述的片狀激光釹玻璃相匹配的吸收玻璃和有機粘接劑：該吸收玻璃的熱膨脹系數(shù)與所述的片狀激光釹玻璃的熱膨脹系數(shù)的差值小于2％，所述的吸收玻璃在激光波長的折射率n₁大于所述片狀激光釹玻璃在激光波長的折射率n₂，且n₁-n₂＝0.0005～0.005；選取有機粘接劑，該有機粘接劑和所述片狀激光釹玻璃在激光波長的折射率匹配，所述的有機粘接劑在激光波長的折射率n₃，要求滿足關系式：n₂＜n₃＜n₁；

(二)所述的片狀激光釹玻璃和吸收玻璃板條的加工和粘貼：對所述的片狀激光釹玻璃的周邊選配尺寸相適應的吸收玻璃板條并進行光學加工，經(jīng)處理后，用所述的有機粘接劑，將所述的吸收玻璃板條緊密地粘貼在所述的片狀激光釹玻璃的周邊上；

(三)片狀激光釹玻璃的通光面進行精密拋光：將周邊都粘貼了所述的吸收玻璃板條的片狀激光釹玻璃進行外部尺寸整形，對所述的片狀激光釹玻璃的通光面進行精密拋光并達到設計要求。

2.根據(jù)權利要求1所述的抑制大尺寸片狀激光釹玻璃放大自發(fā)輻射的方法，其特征在于：所述的第(二)步包括下列具體步驟：

①對所述的片狀激光釹玻璃的周邊的相間隔的側邊進行光學加工，根據(jù)所述的片狀激光釹玻璃的相間隔的側邊的尺寸，選配尺寸相適應的吸收玻璃板條，并對所述的吸收玻璃板條進行光學加工；

②對所述的片狀激光釹玻璃和所述的吸收玻璃板條進行光學加工后的光學平面，實施酸性物質處理和偶聯(lián)劑處理；

③用所述的有機粘接劑，將所述的吸收玻璃板條緊密地粘貼在所述?的片狀激光釹玻璃的相應的側邊上；

④對所述的片狀激光釹玻璃尚未粘貼吸收玻璃板條的側邊一一進行光學加工，根據(jù)所述的片狀激光釹玻璃尚未粘貼吸收玻璃板條的側邊的尺寸，配備尺寸相適應的吸收玻璃板條，對所述的吸收玻璃板條進行光學加工；

⑤對所述的片狀激光釹玻璃和所述的吸收玻璃板條進行光學加工后的光學平面，實施酸性物質處理和偶聯(lián)劑處理；

⑥用所述的有機粘接劑，將所述的吸收玻璃板條緊密地粘貼在所述的片狀激光釹玻璃的相應的側邊上。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的抑制大尺寸片狀激光釹玻璃放大自發(fā)輻射的方法，其特征在于：所述的吸收玻璃為摻雜氧化銅的磷酸鹽玻璃，其中摻雜氧化銅的重量百分比為0.1％～1％。

4.根據(jù)權利要求1或2所述的抑制大尺寸片狀激光釹玻璃放大自發(fā)輻射的方法，其特征在于：所述的有機粘接劑在固化過程中無揮發(fā)性組分產(chǎn)生；所述的有機粘接劑在固化過程中體積收縮率低于7％。

5.根據(jù)權利要求2所述的抑制大尺寸片狀激光釹玻璃放大自發(fā)輻射的方法，其特征在于：所述的偶聯(lián)劑為硅烷偶聯(lián)劑或鈦酸酯偶聯(lián)劑，所述的偶聯(lián)劑處理是將所述的硅烷偶聯(lián)劑或鈦酸酯偶聯(lián)劑溶解在稀乙酸中，將需要處理的光學面浸泡在所述的硅烷偶聯(lián)劑的酸溶液中或鈦酸酯偶聯(lián)劑的酸溶液中進行處理。

6.根據(jù)權利要求2所述的抑制大尺寸片狀激光釹玻璃放大自發(fā)輻射的方法，其特征在于：所述的酸性物質為乙酸，該乙酸的配制濃度0.2mol/L，浸泡處理所述的釹玻璃側邊和所述的吸收玻璃板條的光學平面。?

7.根據(jù)權利要求1或2所述的抑制大尺寸片狀激光釹玻璃放大自發(fā)輻射的方法，其特征在于：所述的激光玻璃側邊和所述的吸收玻璃板條相互粘貼的光學平面的加工精度要求達到2級或2級以上光潔度，平整度達到或優(yōu)于4λ。

8.根據(jù)權利要求1或2所述的抑制大尺寸片狀激光釹玻璃放大自發(fā)輻射的方法，其特征在于：所述的激光釹玻璃的側邊與該激光釹玻璃的通光面的垂直面具有1°～4°的傾角，且相對側面的傾角相互平行。?