[發明專利]液體噴射頭有效
| 申請號： | 201010273130.4 | 申請日： | 2010-09-02 |
| 公開（公告）號： | CN102001225A | 公開（公告）日： | 2011-04-06 |
| 發明（設計）人： | 澤田悅子 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | B41J2/14 | 分類號： | B41J2/14;C09D183/04 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 液體 噴射 | ||
1.液體噴射頭，包括：
具有液體噴射口的部件，
其中該噴射口在其上開口的該部件的表面由具有疏水性第一基團和親水性第二基團的硅氧烷化合物的固化反應形成，該第一基團具有氟原子，該第二基團具有選自羥基、羧基、羰基和聚醚結構中的至少一種。
2.根據權利要求1的液體噴射頭，其中該第二基團具有羥基和聚醚結構中的至少一種。
3.根據權利要求1的液體噴射頭，其中該第二基團是聚(乙二醇)殘基或聚(丙二醇)殘基。
4.根據權利要求1的液體噴射頭，其中該硅氧烷化合物由具有下式(1)的化合物制備：
R4O-(R3O)n-Z-Si-(OR2)q(R1)p????(1)
其中p+q為3，p為0、1或2，q為1、2或3，n為1-30范圍內的整數，Z表示二價有機基團，R1和R2獨立地表示飽和或不飽和的烴殘基，R3表示-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-或-CH2CH(CH3)-，和R4表示H或烷基。
5.根據權利要求1的液體噴射頭，其中該硅氧烷化合物由具有下式(2)的化合物制備：
CF3-(CF2)r-Z-Si-(OR2)q(R1)p????(2)
其中p+q為3，p為0、1或2，q為1、2或3，r為0-20范圍內的整數，Z表示二價有機基團，并且R1和R2獨立地表示飽和或不飽和的烴殘基或氫原子。
6.根據權利要求5的液體噴射頭，其中r為5-13范圍內的整數。
7.根據權利要求1的液體噴射頭，其中該硅氧烷化合物具有陽離子聚合性基團。
8.根據權利要求7的液體噴射頭，其中該硅氧烷化合物由具有下式(3)的化合物制備：
R3-Z-Si-(OR2)q(R1)p????(3)
其中p+q為3，p為0、1或2，q為1、2或3，Z表示二價有機基團，R1和R2獨立地表示飽和或不飽和的烴殘基，和R3為陽離子聚合性有機基團。
9.液體噴射頭，包括：
具有液體噴射口的部件，
其中該噴射口在其上開口的該部件的表面由具有第一基團和第二基團的硅氧烷化合物的固化反應形成，該第一基團是全氟烷基，該第二基團具有選自羥基、羧基、羰基和聚醚結構中的至少一種。
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