[發明專利]光學元件及其制造方法

無效

• 申請號: 201010272052.6
• 申請日: 2010-09-02
• 公開（公告）號: CN102004273A
• 公開（公告）日: 2011-04-06
• 發明（設計）人: 高橋秀俊;飯田文彥;木曾弘之;伊藤優;田澤洋志;西村良
• 申請（專利權）人: 索尼公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

1.一種具有防反射功能的光學元件，其特征在于，包括：

具有表面的基體；以及

以小于等于可見光的波長的細微節距在所述基體的表面配置多個且由凸部或凹部構成的多個構造體，

形成所述構造體的材料的彈性模量大于等于1MPa小于等于1200MPa，

所述構造體的高寬比大于等于0.6小于等于1.5。

2.根據權利要求1所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，

還包括形成在所述構造體上的表面處理層，

所述表面處理層包含含有氟和硅中的至少一種的化合物。

3.根據權利要求2所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，形成了所述表面處理層的所述基體的表面上的油酸的接觸角大于等于30度。

4.根據權利要求3所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，形成了所述表面處理層的所述基體的表面上的油酸的接觸角大于等于50度。

5.根據權利要求1所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，

所述構造體被配置成在所述基體的表面構成多列軌跡，且形成六邊形格子圖案、準六邊形格子圖案、四邊形格子圖案或準四邊形格子圖案，

所述構造體為具有沿所述軌跡的延伸方向的長軸方向的橢圓錐或橢圓錐臺形狀。

6.根據權利要求5所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，所述軌跡是直線狀或圓弧形。

7.根據權利要求5所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，所述軌跡是蛇行軌跡。

8.根據權利要求1所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，

所述構造體被配置成在所述基體的表面構成多列軌跡，且形成準六邊形格子圖案，

所述軌跡的延伸方向上的所述構造體的高度或深度小于所述軌跡的列方向上的所述構造體的高度或深度。

9.根據權利要求1所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，

所述構造體被配置成在所述基體的表面構成多列軌跡，且形成四邊形格子圖案或準四邊形格子圖案，

相對于所述軌跡的延伸方向傾斜的排列方向上的所述構造體的高度或深度小于所述軌跡的延伸方向上的所述構造體的高度或深度。

10.根據權利要求1所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，相同軌跡內的所述構造體的配置節距P1長于鄰接的兩個軌跡間的所述構造體的配置節距P2。

11.一種具有防反射功能的光學元件，其特征在于，包括：

以小于等于可見光的波長的細微節距配置多個且由凸部構成的多個構造體，

相鄰的所述構造體的下部彼此接合，

形成所述構造體的材料的彈性模量大于等于1MPa小于等于1200MPa，

所述構造體的高寬比大于等于0.6小于等于1.5。

12.一種具有防反射功能的光學元件，其特征在于，包括：

具有表面的基體；以及

以小于等于可見光的波長的細微節距在所述基體的表面配置多個且由凸部或凹部構成的多個構造體，

形成所述構造體的材料的彈性模量大于等于1MPa小于等于1200MPa，

所述構造體的高寬比大于等于0.6小于等于5。

13.根據權利要求12所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，形成所述基體的材料的彈性模量大于等于1MPa小于等于3000MPa。

14.根據權利要求13所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，所述基體的厚度大于等于60μm。

15.根據權利要求12所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，

所述基體具有兩層以上的層結構，

在所述兩層以上的層結構中，與所述構造體鄰接形成的基底層的彈性模量大于等于1MPa小于等于3000Mpa。

16.根據權利要求15所述的具有防反射功能的光學元件，其特征在于，所述基底層的厚度大于60μm。