[發明專利]成像裝置、存儲介質以及成像方法有效
| 申請號: | 201010271510.4 | 申請日: | 2010-09-02 |
| 公開(公告)號: | CN102004423A | 公開(公告)日: | 2011-04-06 |
| 發明(設計)人: | 西田聰 | 申請(專利權)人: | 柯尼卡美能達商用科技株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/16 | 分類號: | G03G15/16;G03G15/00;G03G21/14 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 李芳華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成像 裝置 存儲 介質 以及 方法 | ||
1.一種用于通過使用電子照相過程來進行成像的成像裝置,包括:
控制部分,用于基于被用于所述電子照相過程且構成所述成像裝置的組件的阻抗值的環境依賴特性信息、以及自身裝置中的環境改變信息,來判斷所述電子照相過程中的過程條件的修正的必要性的存在,并且用于基于判斷的結果來進行修正。
2.如權利要求1所述的成像裝置,還包括檢測部分,用于檢測自身裝置中的溫度和濕度,其中
所述控制部分使用所述組件的阻抗值變為可比程度時的溫度和濕度的比,作為所述環境依賴特性信息,其中,所述組件在充分長的時間內保持原樣,并且所述控制部分計算由所述檢測部分在第一時間和第二時間檢測的溫度的差的絕對值、與由所述檢測部分在所述第一時間和所述第二時間檢測的濕度之間的差的絕對值之間的比,作為所述環境改變信息。
3.如權利要求2所述的成像裝置,其中,所述控制部分計算所述環境依賴特性信息與所述環境改變信息之間的差值,并且基于所述差值來判斷所述過程條件的修正的必要性的存在。
4.如權利要求2或3所述的成像裝置,其中,所述控制部分使用伴隨周圍環境的改變的、所述組件的阻抗值的改變的特性作為所述阻抗改變特性信息,基于所述阻抗改變特性信息來計算所述過程條件的值的修正寬度,并且基于所計算的修正寬度來進行修正。
5.如權利要求4所述的成像裝置,還包括測量部分,用于測量時間,其中
所述控制部分計算由所述測量部分測量的第一時間與第二時間之間的差值作為流逝的時間,基于所述流逝的時間和所述阻抗改變特性信息來計算所述組件的阻抗值,并且基于所計算的阻抗值來計算所述過程條件的值的修正寬度。
6.如權利要求1所述的成像裝置,其中,所述組件是主轉印輥。
7.如權利要求1所述的成像裝置,其中,所述過程條件的值之一是轉印電壓值。
8.一種計算機可讀存儲介質,用以存儲用于使得所述計算機用作控制部分的程序,其中,所述控制部分用于基于被用于電子照相過程且構成成像裝置的組件的阻抗值的環境依賴特性信息、以及所述成像裝置中的環境改變信息,來判斷所述電子照相過程中的過程條件的修正的必要性的存在,所述控制部分基于判斷的結果來進行修正。
9.一種由用于通過使用電子照相過程來進行成像的成像裝置執行的成像方法,所述方法包括步驟:
基于被用于所述電子照相過程且構成所述成像裝置的組件的阻抗值的環境依賴特性信息、以及所述成像裝置中的環境改變信息,來判斷所述電子照相過程中的過程條件的修正的必要性的存在;以及
基于在判斷步驟中獲得的判斷的結果來進行修正。
10.如權利要求9所述的成像方法,還包括步驟:
檢測所述成像裝置中的溫度和濕度;
計算所述組件的阻抗值變為可比程度時的溫度和濕度的比,作為所述環境依賴特性信息,其中,所述組件在充分長的時間內保持原樣;以及
計算在第一時間和第二時間在檢測步驟中檢測的溫度的差的絕對值、與在所述第一時間和所述第二時間在所述檢測步驟中檢測的濕度之間的差的絕對值之間的比,作為所述環境改變信息。
11.如權利要求10所述的成像方法,其中,所述判斷步驟包括計算所述環境依賴特性信息與所述環境改變信息之間的差值,并且基于所計算的差值,判斷所述過程條件的修正的必要性的存在。
12.如權利要求10所述的成像方法,其中,用于進行修正的步驟包括:
基于通過使用伴隨周圍環境的改變的、所述組件的阻抗值的改變的特性作為阻抗改變特性信息而獲得的阻抗改變特性信息,計算所述過程條件的值的修正寬度;以及
基于所計算的修正寬度,進行修正。
13.如權利要求12所述的成像方法,其中,用于計算所述修正寬度的計算步驟包括步驟:
測量時間:
計算在測量步驟中測量的第一時間與第二時間之間的差值,作為流逝的時間;
基于所計算的流逝的時間和所述阻抗改變特性信息,計算所述組件的阻抗值;以及
基于所計算的阻抗值,計算所述過程條件的值的修正寬度。
14.如權利要求9所述的成像方法,其中,所述組件是主轉印輥。
15.如權利要求9所述的成像方法,其中,所述過程條件的值之一是轉印電壓值。
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