[發(fā)明專利]局部環(huán)流熏蒸裝置及其應(yīng)用于局部環(huán)流熏蒸的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010271256.8 | 申請(qǐng)日: | 2010-08-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101946757A | 公開(公告)日: | 2011-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐向東;謝令德;羅紹華;陳國利;賀艷萍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 徐向東;謝令德;羅紹華;陳國利;賀艷萍 |
| 主分類號(hào): | A01M13/00 | 分類號(hào): | A01M13/00 |
| 代理公司: | 武漢開元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42104 | 代理人: | 王和平 |
| 地址: | 430212 湖北省武漢*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 局部 環(huán)流 熏蒸 裝置 及其 應(yīng)用于 方法 | ||
1.一種局部環(huán)流熏蒸裝置,其特征在于包括一個(gè)盛裝熏蒸劑的壓力容器,一臺(tái)氣體分配器,至少一臺(tái)風(fēng)機(jī)和相應(yīng)數(shù)量的進(jìn)風(fēng)管,以及三根以上氣體導(dǎo)入管,氣體分配器上有一組接口,壓力容器、風(fēng)機(jī)出風(fēng)口、氣體導(dǎo)入管分別通過軟管與氣體分配器相接,風(fēng)機(jī)進(jìn)風(fēng)口與進(jìn)風(fēng)管直接相接,氣體導(dǎo)入管和進(jìn)風(fēng)管為硬管且下部周圍開有小孔,小孔大小以糧食不能漏出為限。
2.如權(quán)利要求1所述的局部環(huán)流熏蒸裝置,其特征在于所述氣體導(dǎo)入管至少為六根。
3.如權(quán)利要求1所述的局部環(huán)流熏蒸裝置,其特征在于所述進(jìn)風(fēng)管的內(nèi)徑是氣體導(dǎo)入管內(nèi)徑的1-2倍。
4.如權(quán)利要求1所述的局部環(huán)流熏蒸裝置,其特征在于所述風(fēng)機(jī)為單管風(fēng)機(jī),所述進(jìn)風(fēng)管為單管風(fēng)機(jī)的管筒。
5.如權(quán)利要求1所述的局部環(huán)流熏蒸裝置,其特征在于所述氣體導(dǎo)入管為糧倉施藥探管。
6.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的局部環(huán)流熏蒸裝置,其特征在于所述氣體導(dǎo)入管開孔部分開孔率為30-50%。
7.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的便攜式局部環(huán)流熏蒸裝置,其特征在于所述進(jìn)風(fēng)管開孔部分開孔率為40-50%。
8.一種應(yīng)用權(quán)利要求1所述的局部環(huán)流熏蒸裝置的局部環(huán)流熏蒸方法,其特征在于包括以下步驟:
A:排查出糧堆內(nèi)因蟲害造熱形成的發(fā)熱源中心位置,確定發(fā)熱區(qū)域,在發(fā)熱區(qū)域上方的糧面蓋上一層薄膜,薄膜面積略大于發(fā)熱區(qū)域水平面積;
B:降溫;將環(huán)流熏蒸裝置的氣體導(dǎo)入管上部和風(fēng)機(jī)出風(fēng)口分別與軟管的連接斷開,直接與倉內(nèi)空氣相通,并將進(jìn)風(fēng)管垂直穿透薄膜插入糧堆,插入位置和深度要求滿足開孔部分中心位置約在發(fā)熱源中心位置,然后將氣體導(dǎo)入管垂直穿透薄膜均勻布置在發(fā)熱區(qū)域周邊,氣體導(dǎo)入管插入深度要求開孔部分中心位置約在發(fā)熱源中心水平面上;開啟風(fēng)機(jī),使倉內(nèi)空氣經(jīng)由氣體導(dǎo)入管進(jìn)入,穿透糧層,匯聚到風(fēng)機(jī)進(jìn)風(fēng)管開孔處,并由風(fēng)機(jī)進(jìn)風(fēng)管排出糧堆外,置換糧堆內(nèi)的濕熱氣體;
C:將氣體導(dǎo)入管上部和風(fēng)機(jī)出風(fēng)口分別與軟管重新連接,并將進(jìn)風(fēng)管向下深插一部分,使進(jìn)風(fēng)管開孔部分中心位置低于發(fā)熱源中心水平面以下,將氣體導(dǎo)入管略向上拔,使開孔部分高于發(fā)熱源中心水平面以上,但氣體導(dǎo)入管開孔部分上沿不能露出壓蓋薄膜的糧面;開啟風(fēng)機(jī)抽取糧堆內(nèi)氣體向氣體分配器輸入,并隨即開啟熏蒸劑壓力容器閥門進(jìn)行施藥,將熏蒸劑送入氣體分配器,與風(fēng)機(jī)送入的氣體混合、環(huán)流。
9.一種根據(jù)權(quán)利要求8所述的局部環(huán)流熏蒸裝置的局部環(huán)流熏蒸方法,其特征在于所述方法步驟3在熏蒸劑壓力容器閥門開啟施藥過程中,每隔一定時(shí)間,所述氣體導(dǎo)入管向上略拔一段距離,但氣體導(dǎo)入管開孔部分上沿不能露出壓蓋薄膜的糧面。
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