[發(fā)明專利]化合物,樹脂,抗蝕劑組合物和用于制備抗蝕劑圖案的方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010269794.3
• 申請(qǐng)日: 2010-08-31
• 公開（公告）號(hào): CN102001926A
• 公開（公告）日: 2011-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 橋本和彥;市川幸司
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 住友化學(xué)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C07C49/84
• 分類號(hào): C07C49/84;C07C69/84;C07C69/773;C07C69/92;C07C69/54;C07C69/96;C08F220/30;G03F7/039;G03F7/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 陳平

1.一種化合物，其由式(A)表示；

其中R¹表示氫原子或C₁至C₆烷基；

Z¹表示單鍵，-CO-O-*或-CO-O-(CH₂)_k-CO-O-*；

Z²表示單鍵，*-O-CO-，*-CO-O-，*-O-(CH₂)_k-CO-，*-CO-(CH₂)_k-O-，*-O-(CH₂)_k-CO-O-，*-O-CO-(CH₂)_k-O-或*-O-CO-(CH₂)_k-O-CO-；

k表示1至6的整數(shù)；

*表示與W的結(jié)合位置；

W表示C₄至C₃₆(n+1)價(jià)脂環(huán)烴基或C₆至C₁₈(n+1)價(jià)芳族烴基，在所述脂族烴基和所述芳族烴基中含有的一個(gè)或多個(gè)氫原子可以被鹵素原子，C₁至C₁₂烷基，C₁至C₁₂烷氧基，C₂至C₄酰基或-OR¹⁰取代；

R¹⁰表示氫原子或由式(R²-2)表示的基團(tuán)；

R²表示氫原子，由式(R²-1)表示的基團(tuán)或由式(R²-2)表示的基團(tuán)；

n表示1至3的整數(shù)；

其中R⁴，R⁵和R⁶獨(dú)立地表示C₁至C₁₂烴基；

其中R⁷和R⁸獨(dú)立地表示氫原子或C₁至C₁₂烴基；

R⁹表示C₁至C₁₄烴基。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，其中由式(A)表示的化合物是由式(A1)表示的化合物；

其中R¹，R²，R¹⁰，Z¹，Z²和n表示與上述定義相同的含義，

p表示0至3的整數(shù)，條件是n+p是1至3的整數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，其中Z¹為-CO-O-*。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，其中Z²為*-O-(CH₂)_k-CO-或*-O-CO-(CH₂)_k-O-CO-，其中k表示與上述定義相同的含義。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，其中n表示1。

6.一種樹脂，其包含衍生自權(quán)利要求1所述的化合物的結(jié)構(gòu)單元。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的樹脂，所述樹脂還包含酸不穩(wěn)定基團(tuán)，并且不溶或難溶于堿水溶液，但是通過酸的作用變得可溶于堿水溶液。

8.一種抗蝕劑組合物，其包含根據(jù)權(quán)利要求6所述的樹脂以及酸生成劑。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的抗蝕劑組合物，其還含有堿性化合物。

10.一種用于形成抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括下列步驟：

(1)將根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的抗蝕劑組合物涂覆到襯底上，

(2)干燥涂覆的組合物以形成組合物層；

(3)使用曝光裝置曝光所述組合物層；

(4)烘焙經(jīng)曝光的組合物層，和

(5)使用顯影設(shè)備將經(jīng)烘焙的組合物層顯影。