[發(fā)明專利]一種FenWnC-Co(Y)合金納米涂層及其制備方法和應(yīng)用無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010266044.0 | 申請日: | 2010-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN101928939A | 公開(公告)日: | 2010-12-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐培全;龔紅英;任江偉;鄧沛然;楊尚磊 | 申請(專利權(quán))人: | 上海工程技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號: | C23C24/08 | 分類號: | C23C24/08;C23C30/00;B23K26/34;B23K26/12 |
| 代理公司: | 上海伯瑞杰知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31227 | 代理人: | 楊杰民 |
| 地址: | 20033*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 fe sub co 合金 納米 涂層 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種制備FenWnC-Co(Y)合金納米涂層的方法,n=3或6,其特征在于,包括如下步驟:
(1)將FenWnC合金粉末與Co粉末、Y2O3粉末低速機(jī)械混合,得到FenWnC-Co(Y)合金粉末;混合物中各組分的重量百分比分別為18~24%、70~76%和5~7%;
(2)以步驟(1)得到的FenWnC-Co(Y)合金粉末作為熔覆合金,利用激光熔覆工藝,在金屬基體表面獲得FenWnC-Co(Y)合金納米復(fù)合涂層;
所述的激光熔覆工藝為:激光熔覆功率為3~5KW,掃描速度3~10mm.s-1,激光光斑直徑20~50mm,離焦量0~6mm;保護(hù)氣體為氮?dú)狻⒑饣蚰蕷狻?/p>
2.權(quán)利要求1所述制備FenWnC-Co(Y)合金納米涂層的方法,其特征在于,所述的金屬基體為鈦合金或鋁合金。
3.權(quán)利要求1所述制備FenWnC-Co(Y)合金納米涂層的方法,其特征在于,步驟(1)中所述的低速機(jī)械混合的工藝為:用球磨將FenWnC合金粉末與Co粉末、Y2O3粉末原料混合2~5hr,球磨直徑5~10mm,轉(zhuǎn)速30~50rms,原料與球磨的重量比為20~50∶1。
4.權(quán)利要求1所述制備FenWnC-Co(Y)合金納米涂層的方法,其特征在于,步驟(1)中所述FenWnC合金粉末、Co粉末和Y2O3粉末顆粒的粒徑為500nm~1μm。
5.權(quán)利要求1所述制備FenWnC-Co(Y)合金納米涂層的方法,其特征在于,步驟(2)中所述的保護(hù)氣體流速為0.3~1.5L·min-1,激光器內(nèi)壓和保護(hù)氣壓分別為550~600kPa和320~380kPa。
6.權(quán)利要求1所述制備FenWnC-Co(Y)合金納米涂層的方法,其特征在于,步驟(2)中寬帶熔覆送粉器的轉(zhuǎn)速為10~16r·min-1。
7.權(quán)利要求1所述制備FenWnC-Co(Y)合金納米涂層的方法,其特征在于,所述FenWnC合金粉末通過機(jī)械合金化工藝制備,其方法為:用球磨將鐵粉、鎢粉和石墨態(tài)碳粉在氮?dú)狻⒑饣驓鍤獗Wo(hù)下混合4~30hr,球磨直徑5~10mm,轉(zhuǎn)速300~400rms,原料與球磨的重量比為20~50∶1;
鐵粉、鎢粉和石墨態(tài)碳粉的摩爾比為2∶1∶1.2~1.5。
8.權(quán)利要求7所述制備FenWnC-Co(Y)合金納米涂層的方法,其特征在于,所述鐵粉、鎢粉和石墨態(tài)碳粉的顆粒粒徑為500nm~1μm。
9.一種FenWnC-Co(Y)合金納米涂層,其特征在于,通過權(quán)利要求1~8所述的方法制備。
10.權(quán)利要求9所述FenWnC-Co(Y)合金納米涂層在制備和修復(fù)航空發(fā)動機(jī)葉片方面的應(yīng)用。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C24-00 自無機(jī)粉末起始的鍍覆
C23C24-02 .僅使用壓力的
C23C24-08 .加熱法或加壓加熱法的
C23C24-10 ..覆層中臨時(shí)形成液相的
C23C24-04 ..顆粒的沖擊或動力沉積
C23C24-06 ..粉末狀覆層材料的壓制,例如軋制
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