[發(fā)明專利]設(shè)定束電流密度分布的調(diào)整目標(biāo)的方法和離子注入裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010264799.7
• 申請日: 2010-08-27
• 公開（公告）號: CN102237244A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 中尾和浩
• 申請（專利權(quán)）人: 日新離子機器株式會社
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01L21/265
• 代理公司: 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290
• 代理人: 李雪春;武玉琴

1.一種設(shè)定束電流密度分布的調(diào)整目標(biāo)的方法，其特征在于，

在離子注入裝置中，針對各個帶狀離子束設(shè)定束電流密度分布的調(diào)整目標(biāo)，所述離子注入裝置從多個離子束供給裝置分別向處理室內(nèi)提供所述帶狀離子束，在與所述帶狀離子束的長邊方向大體垂直的方向上，輸送玻璃基板，沿所述玻璃基板的整個面，使由所述各個帶狀離子束照射的區(qū)域重迭，在所述玻璃基板上形成大體均勻的離子注入量分布，

根據(jù)對所述離子注入裝置設(shè)定的離子注入條件，檢索調(diào)整目標(biāo)設(shè)定數(shù)據(jù)，在所述調(diào)整目標(biāo)設(shè)定數(shù)據(jù)內(nèi)有與所述離子注入條件一致的數(shù)據(jù)的情況下，使用從該調(diào)整目標(biāo)設(shè)定數(shù)據(jù)讀出的束電流值，設(shè)定所述各個帶狀離子束中至少一個所述帶狀離子束的束電流密度分布的調(diào)整目標(biāo)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)定束電流密度分布的調(diào)整目標(biāo)的方法，其特征在于，把照射到所述玻璃基板上的所述離子束的離子種類和能量作為檢索項目進行所述檢索。

3.一種離子注入裝置，其特征在于，

從多個離子束供給裝置分別向處理室內(nèi)提供帶狀離子束，在與所述帶狀離子束的長邊方向大體垂直的方向上，輸送玻璃基板，沿所述玻璃基板的整個面，使由各個所述帶狀離子束照射的區(qū)域重迭，在所述玻璃基板上形成大體均勻的離子注入量分布，

所述離子注入裝置包括控制裝置，所述控制裝置具有下述功能：根據(jù)對所述離子注入裝置設(shè)定的離子注入條件，檢索調(diào)整目標(biāo)設(shè)定數(shù)據(jù)，在所述調(diào)整目標(biāo)設(shè)定數(shù)據(jù)內(nèi)有與所述離子注入條件一致的數(shù)據(jù)的情況下，使用從該調(diào)整目標(biāo)設(shè)定數(shù)據(jù)讀出的束電流值，設(shè)定各個所述帶狀離子束中至少一個所述帶狀離子束的束電流密度分布的調(diào)整目標(biāo)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的離子注入裝置，其特征在于，把照射到所述玻璃基板上的所述離子束的離子種類和能量作為檢索項目進行所述檢索。