[發(fā)明專(zhuān)利]黑色材料、黑色微粒分散液和使用了它的黑色遮光膜以及帶有黑色遮光膜的基材

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010263786.8
• 申請(qǐng)日: 2005-09-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101899230A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-12-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 竹田洋介;木下暢;中野豐將;溫井秀樹(shù)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 住友大阪水泥股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C09C1/62
• 分類(lèi)號(hào): C09C1/62;B22F1/00;C09D201/00;C03C17/06;C09D7/12;C22C5/06;C09D17/00;C22C13/00
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 李貴亮

本申請(qǐng)是分案申請(qǐng)，其母案申請(qǐng)的申請(qǐng)?zhí)枺篜CT/JP2005/017176(200580031597.5)，申請(qǐng)日：2005.9.16，發(fā)明名稱(chēng)：黑色材料、黑色微粒分散液和使用了它的黑色遮光膜以及帶有黑色遮光膜的基材?

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種黑色材料(黑色微粒)，特別涉及適用于記錄材料、液晶顯示器等各種顯示裝置的黑矩陣等中，黑色度高、遮光性?xún)?yōu)良的黑色材料。另外，本發(fā)明還涉及黑色微粒分散液和使用了它的黑色遮光膜及帶有黑色遮光膜的基材，特別涉及適用于記錄材料、各種顯示裝置的黑矩陣、黑色裝飾膜等中，黑色度高、遮光性?xún)?yōu)良的膜技術(shù)。?

本申請(qǐng)基于2004年9月21日申請(qǐng)的特愿2004-273349號(hào)、2005年2月17日申請(qǐng)的特愿2005-040431號(hào)、2005年2月17日申請(qǐng)的特愿2005-040432號(hào)主張優(yōu)先權(quán)，在這里援引其內(nèi)容。?

背景技術(shù)

以往，作為黑色材料，已知有炭黑、低次氧化鈦、氧化鐵、鉻、銀微粒等(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。?

這些黑色材料被作為對(duì)黑色光遮蔽性薄膜、黑色光遮蔽性玻璃、黑色紙、黑色布、黑色油墨、等離子體顯示器(PDP)或液晶顯示器(LCD)的黑矩陣材料、黑密封材料、黑掩模材料等賦予黑色或光遮蔽性的材料利用。?

另一方面，在將金、鉑族元素或它們的合金黑色化時(shí)，雖然可以采用在這些金屬或合金的母材的表面形成由黑色氧化物構(gòu)成的覆蓋膜的方法，但是該方法中，黑色氧化物容易從母材上剝離，無(wú)法獲得具有耐久性的黑色金合金。所以，提出過(guò)如下的黑色合金的方案，即，通過(guò)向金、鉑族元?素或它們的合金或者在所述任意的金屬或合金中添加了銀的合金中，添加銅、鎳、鐵等金屬，將其氧化，而在表面形成密接性良好的黑色氧化物層(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。?

另外，在感光材料的領(lǐng)域中，作為提高鮮明性、將從背面曝光的光學(xué)信息以恰當(dāng)?shù)臐舛扔涗洸⑶腋牧剂孙@影處理時(shí)的紅外線檢測(cè)特性的照片用的感光材料，提出過(guò)在水性明膠中分散了黑色膠體銀的黑色膠體銀分散物(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)3)。?

但是，以往作為薄型并且大型的平面型顯示裝置，已知能夠?qū)崿F(xiàn)全色顯示的液晶顯示器(LCD)。?

在該彩色液晶顯示器中，在以矩陣狀排列于透明基板上的R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))的各象素中，為了提高其顯示面的對(duì)比度，形成有遮光性高的黑矩陣。?

特別是在使用了薄膜晶體管(TFT)的有源矩陣型的液晶顯示器(TFT-LCD)中，該黑矩陣會(huì)防止TFT的光所引起的泄漏電流，并且阻止各象素的顯示面以外的光的透過(guò)而提高各象素的對(duì)比度，從而可以提高作為顯示裝置的畫(huà)質(zhì)。?

該黑矩陣有形成于TFT陣列基板側(cè)的情況和形成于濾色片側(cè)的情況。?

對(duì)于形成于TFT陣列基板側(cè)的情況，由于黑矩陣與象素電極及TFT直接接觸，因此對(duì)黑矩陣要求高絕緣性。?

另一方面，對(duì)于形成于濾色片側(cè)的情況，特別是在橫電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示器(LCD)的情況下，對(duì)濾色片側(cè)的黑矩陣也要求高絕緣性。?

該黑矩陣以往雖然是利用真空蒸鍍法或?yàn)R射法將透明的象素電極以外的部分覆蓋地形成遮光性高的Cr等的金屬膜，然而近年來(lái)，作為取代它的材料，開(kāi)發(fā)出了遮光性高、制造工序簡(jiǎn)單并且可以實(shí)現(xiàn)低價(jià)格化的黑矩陣形成用材料，并已經(jīng)用于實(shí)用之中。?

作為此種黑矩陣形成用材料，例如提出過(guò)：在有機(jī)溶劑中分散了將表面利用樹(shù)脂或氧化硅覆蓋而進(jìn)行了絕緣化的炭黑或鈦黑的分散液(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)4、5)；在有機(jī)溶劑中分散了銀微粒等金屬微粒的分散液(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)6、7)。?

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：特開(kāi)平5-127433號(hào)公報(bào)?

專(zhuān)利文獻(xiàn)2：特開(kāi)平10-8235號(hào)公報(bào)?

專(zhuān)利文獻(xiàn)3：特開(kāi)2000-155387號(hào)公報(bào)?

專(zhuān)利文獻(xiàn)4：特開(kāi)2002-201381號(hào)公報(bào)?

專(zhuān)利文獻(xiàn)5：特開(kāi)2002-267832號(hào)公報(bào)?

專(zhuān)利文獻(xiàn)6：特開(kāi)2004-317897號(hào)公報(bào)?

專(zhuān)利文獻(xiàn)7：特開(kāi)2004-334180號(hào)公報(bào)?

但是，以往的炭黑、低次氧化鈦、氧化鐵等金屬材料或無(wú)機(jī)材料雖然是黑色，但是光遮蔽性(遮光性)不充分。所以，為了使用含有這些黑色材料的膜而將光遮蔽，就需要通過(guò)厚厚地涂布含有黑色材料的涂布液，或?qū)⒃撏坎家憾啻沃丿B地涂布，而在基材上形成具有厚度的膜。?

在將這些黑色材料作為在白色基材上描繪黑色線的記錄材料使用的情況下，由于遮光性弱，因此與基底的白色基材的交界部分就會(huì)模糊，從而有無(wú)法描繪清晰的線的問(wèn)題。?