[發明專利]殼體的制作方法及由該方法制得的殼體

無效

• 申請號: 201010263721.3
• 申請日: 2010-08-26
• 公開（公告）號: CN102373416A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;萬自成
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/35;C23C14/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種殼體的制作方法及由該方法制得的殼體。

背景技術

隨著科技的不斷進步，手機及計算機等各式電子裝置也迅速發展，其功能亦愈來愈豐富。為了使電子裝置的外殼具有更加豐富色彩，傳統上可利用彩色塑料形成彩色塑料外殼，或藉由噴漆方式在電子裝置的殼體表面形成色彩層。但是，使用塑料殼體不能呈現良好的金屬質感。

磁控濺射技術因其環保、制備的薄膜耐磨性好、產品外觀極具金屬質感等特點，因此在裝飾性鍍膜領域應用越來越廣。通過磁控濺射雖然可以在塑料殼體上獲得較佳的金屬質感的膜層，但是膜層的顏色卻不如烤漆、陽極處理等成膜工藝的顏色豐富，嚴重限制了磁控濺射工藝在裝飾鍍膜領域的競爭力。

發明內容

鑒于此，有必要提供一種具有紫紅色金屬質感殼體的制作方法。

另外，還有必要提供一種由上述方法所制得的殼體。

一種殼體的制備方法，包括如下步驟：提供透明的基體，對基體的表面進行遮蔽，使用鈦靶，以氧氣和氮氣為反應氣體，氧氣流量為10～14sccm，氮氣流量為115～125sccm，采用磁控濺射方法對基體進行磁控濺射，濺射時間為75～95分鐘，以在基體的另一表面形成鈦氧氮膜層；

在該鈦氧氮膜層上以磁控濺射方法形成鉻膜層，濺射時間為0.5小時，使該鈦氧氮膜層一側呈現的色度區域于CIE?LAB表色系統的L^*坐標值介于40至55，a^*坐標值介于8至10，b^*坐標值介于-24至-16。

一種由上述方法制得的殼體，包括透明的基體及形成于基體上的復合膜層，該復合膜層包括鈦氧氮膜層及鉻膜層，該鈦氧氮膜層直接形成于基體的表面上，該鉻膜層形成于該鈦氧氮膜層上，該復合膜層于該鈦氧氮膜層一側呈現的色度區域于CIE?LAB表色系統的L^*坐標值介于40至55，a^*坐標值介于8至10，b^*坐標值介于-24至-16。

本發明殼體的制作方法通過于透明的基體的表面磁控濺射鈦氧氮膜層和鉻膜層的復合膜層，并通過控制濺射過程中反應氣體的流量以使所述復合膜層形成特定的微觀結構，而使所述殼體呈現出紫紅色并有金屬質感的外觀，豐富了磁控濺射層的顏色，提高了產品的外觀競爭力。

附圖說明

圖1是本發明較佳實施例的殼體的剖視示意圖。

主要元件符號說明

殼體??????????????10

基體??????????????11

內表面????????????112

外表面????????????114

復合膜層??????????13

鈦氧氮膜層????????131

鉻膜層????????????133

具體實施方式

本發明一較佳實施方式的殼體10(如圖1所示)的制作方法包括如下步驟：

提供透明的基體11，該基體11可以為透明玻璃或透明塑料。該基體11包括內表面112及外表面114。

對基體11進行表面清洗，以除去基體11表面的雜質和油污等，清洗完畢后烘干備用。所述清洗包括將基體11放入盛裝有乙醇及/或丙酮溶液的超聲波清洗器中進行震動清洗。

對基體11的外表面114進行遮蔽，以防止于內表面112形成復合膜層13時對外表面114造成污染。在本優選實施例使用高溫膠帶對外表面114進行遮蔽。

將基體11固定于磁控濺射鍍膜機(圖未示)的轉架上，抽真空該鍍膜機的腔體至8×10^-3Pa，并使該腔體的溫度保持在0℃左右，通入流量為400～450sccm(標準狀態毫升/分鐘)的高純氬氣(工作氣體)，以氧氣和氮氣為反應氣體，氧氣流量為10～14sccm，氮氣流量為115～125sccm；開啟鈦靶材的電源，設定功率為8～12kw，并設置轉架的公轉轉速為3轉每分鐘(revolution?per?minute，rpm)，對基體11的內表面112進行磁控濺射，以在該內表面112上形成鈦氧氮膜層131。濺射形成該鈦氧氮膜層131的時間為75～95分鐘。

濺射所述鈦氧氮膜層131后，關閉鈦靶，停止通入氮氣及氧氣，然后開啟鉻靶并調節鉻靶功率為8～10kw，繼續進行磁控濺射，以在該鈦氧氮膜層131上形成鉻膜層133。濺射形成該鉻膜層133的時間為0.5小時。

所述鉻膜層133形成后，即制得所述復合膜層13。