[發(fā)明專利]包括感光材料的衍射激光光束均勻器及其制作方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010262077.8 | 申請日: | 2010-08-18 |
| 公開(公告)號: | CN101995663A | 公開(公告)日: | 2011-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 安迪·J·貝拉米安;克里斯多佛·A·埃貝斯;劉慶 | 申請(專利權(quán))人: | 勞倫斯·利弗莫爾國家安全有限責任公司 |
| 主分類號: | G02B27/09 | 分類號: | G02B27/09;G02F1/29 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 朱勝;陳煒 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 包括 感光材料 衍射 激光 光束 均勻 及其 制作方法 | ||
1.一種光學系統(tǒng),包括:
衍射光學元件,其沿光束路徑布置,并且具有輸入表面、與所述輸入表面相對的輸出表面以及在所述輸入表面與所述輸出表面之間延伸的預(yù)定厚度,其中,所述衍射光學元件包括光熱折變材料,并且其中,所述輸入表面處的激光光束強度分布由第一強度分布表征;
透鏡,其沿所述光束路徑距所述輸出表面預(yù)定距離而布置,并且能夠操作用以接收離開所述輸出表面的激光光束,其中,所述透鏡的表面處的激光光束強度分布由第二強度分布表征;以及
傳播路徑,其沿所述光束路徑從所述透鏡延伸到目標位置,其中,所述目標位置處的激光光束強度分布由變化小于10%的第三強度分布表征。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學系統(tǒng),其中,所樣衍射光學元件由折射率的連續(xù)變化表征。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學系統(tǒng),其中,所述光熱折變材料是基本無正弦光柵結(jié)構(gòu)的。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學系統(tǒng),其中,所述光柵結(jié)構(gòu)是周期的或啁啾的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學系統(tǒng),其中,所述衍射光學元件執(zhí)行成像操作。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學系統(tǒng),其中,所述第一強度分布中的變化大于10%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學系統(tǒng),其中,所述第三強度分布中的變化小于5%。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學系統(tǒng),其中,所述第三強度分布中的變化小于2%。
9.一種制造多個衍射光學元件的方法,所述方法包括:
提供部分透射載片;
提供第一光熱折變PTR玻璃片;
引導(dǎo)第一紫外線UV輻射通過所述部分透射載片,以照射在所述第一PTR玻璃片上;
將所述第一PTR玻璃片的預(yù)定部分暴露于所述第一UV輻射;
熱處理曝光后的第一PTR玻璃片;
提供第二PTR玻璃片;
引導(dǎo)第二UV輻射通過熱處理后的第一PTR玻璃片,以照射在所述第二PTR玻璃片上;
將所述第二PTR玻璃片的預(yù)定部分暴露于所述第二UV輻射;
熱處理曝光后的第二PTR玻璃片;以及
使用另外的PTR玻璃片重復(fù)所述第二PTR玻璃片的提供和處理。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中,所述第二PTR玻璃片由作為位置函數(shù)的折射率的連續(xù)變化表征。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中,所述第一PTR玻璃片包括長方體。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中,PTR玻璃包括長方體,并且所述第一UV輻射在垂直于所述長方體的最小維度的面上照射在所述長方體上。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中,所述第二PTR玻璃片包括長方體。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中,所述部分透射載片包括攝影圖像。
15.一種制作多個衍射光學元件的方法,所述方法包括:
提供由作為位置函數(shù)的預(yù)定相位分布表征的母板;
提供多個PTR玻璃片;
a)引導(dǎo)UV輻射通過所述母板,以照射在所述多個PTR玻璃片的第一個上;
b)將所述多個PTR玻璃片的所述第一個的預(yù)定部分暴露于所述UV輻射;
c)熱處理所述多個PTR玻璃片的曝光后的第一個,以形成第一個衍射光學元件;以及
重復(fù)步驟a)到c),順序用所述多個PTR玻璃片的其它玻璃片替代所述多個PTR玻璃片的所述第一個,以形成其它衍射光學元件。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,其中,所述母板包括PTR玻璃。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,其中,所述PTR玻璃是長方體。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,其中,所述母板包括多級蝕刻衍射板。
19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,其中,所述多個衍射光學元件由作為位置函數(shù)的折射率的連續(xù)變化表征。
20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,其中,所述多個衍射光學元件包括衍射均勻器。
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