[發(fā)明專利]紀念幣模具表面制備氮化鉭涂層的工藝方法

有效

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• 申請日: 2010-08-25
• 公開（公告）號: CN102373471A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發(fā)明（設計）人: 劉迪;劉志剛;賴茂明;康今哲;朱慕平;唐光澤;張吉剛;孫志國;馬麟
• 申請（專利權）人: 中國印鈔造幣總公司
• 主分類號: C23C28/04
• 分類號: C23C28/04
• 代理公司: 遼寧沈陽國興專利代理有限公司 21100
• 代理人: 李叢

1.紀念幣模具表面制備氮化鉭涂層的工藝方法，其特征在于包括下述步驟：

①對模具進行氮等離子體基離子注入表面處理，采用氣體為純度99.999％高純氮氣，用射頻激發(fā)氮等離子體，注入電壓為60kV，注入劑量為3×10¹⁷-5×10¹⁷離子/cm²；

②將上述表面處理過的模具進行加熱，使模具溫度升至200-300℃；

③對上述升溫后的模具，采用磁控濺射在模具表面沉積一層厚度為30-100nm鉭膜；

④對上述鉭膜進行等離子體基離子注入處理，形成氮化鉭層，注入電壓為45-60kV，注入劑量為0.5×10¹⁷-1×10¹⁷離子/cm²；

⑤反復進行上述步驟③和步驟④，直至獲得厚度為1-2μm的氮化鉭涂層。

2.根據權利要求1所述的紀念幣模具表面制備氮化鉭涂層的工藝方法，其特征在于包括下述步驟：①對模具進行氮等離子體基離子注入表面處理，采用氣體為純度99.999％高純氮氣，用射頻激發(fā)氮等離子體，注入電壓為60kV，注入劑量為3×10¹⁷離子/cm²②將上述表面處理過的模具進行加熱，使模具溫度升至200℃；③對上述升溫后的模具，采用磁控濺射在模具表面沉積一層厚度為30nm鉭膜；④對上述鉭膜進行等離子體基離子注入處理，形成氮化鉭層，注入電壓為45kV，注入劑量為0.5×10¹⁷離子/cm²；⑤反復進行步驟③和④共40次，直至獲得厚度為1.2μm的氮化鉭涂層。

3.根據權利要求1所述的紀念幣模具表面制備氮化鉭涂層的工藝方法，其特征在于包括下述步驟：①對模具進行氮等離子體基離子注入表面處理，采用氣體為純度99.999％高純氮氣，用射頻激發(fā)氮等離子體，注入電壓為60kV，注入劑量為5×10¹⁷離子/cm²②將上述表面處理過的模具進行加熱，使模具溫度升至300℃；③對上述升溫后的模具，采用磁控濺射在模具表面沉積一層厚度為100nm鉭膜；④對上述鉭膜進行等離子體基離子注入處理，形成氮化鉭層，注入電壓為60kV，注入劑量為1×10¹⁷離子/cm²；⑤反復進行步驟③和④共20次，直至獲得厚度為2μm的氮化鉭涂層。

4.根據權利要求1所述的紀念幣模具表面制備氮化鉭涂層的工藝方法，其特征在于包括下述步驟：①對模具進行氮等離子體基離子注入表面處理，采用氣體為純度99.999％高純氮氣，用射頻激發(fā)氮等離子體，注入電壓為60kV，注入劑量為4×10¹⁷離子/cm²②將上述表面處理過的模具進行加熱，使模具溫度升至250℃；③對上述升溫后的模具，采用磁控濺射在模具表面沉積一層厚度為50nm鉭膜；④對上述鉭膜進行等離子體基離子注入處理，形成氮化鉭層，注入電壓為60kV，注入劑量為1×10¹⁷離子/cm²；⑤反復進行步驟③和④共30次，直至獲得厚度為1.5μm的氮化鉭涂層。

5.根據權利要求1所述的紀念幣模具表面制備氮化鉭涂層的工藝方法，其特征在于包括下述步驟：①對模具進行氮等離子體基離子注入表面處理，采用氣體為純度99.999％高純氮氣，用射頻激發(fā)氮等離子體，注入電壓為60kV，注入劑量為3×10¹⁷離子/cm²②將上述表面處理過的模具進行加熱，使模具溫度升至300℃；③對上述升溫后的模具，采用磁控濺射在模具表面沉積一層厚度為40nm鉭膜；④對上述鉭膜進行等離子體基離子注入處理，形成氮化鉭層。注入電壓為60kV，注入劑量為0.5×10¹⁷離子/cm²；⑤反復進行步驟③和④共25次，直至獲得厚度為1μm的氮化鉭涂層。