[發明專利]真空鍍膜系統

無效

• 申請號: 201010261606.2
• 申請日: 2010-08-24
• 公開（公告）號: CN102373422A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發明（設計）人: 王仲培
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及鍍膜領域，具體地，涉及一種真空鍍膜系統。

背景技術

目前，電子產品、光學元件等金屬或塑料制品的外觀裝飾性鍍膜或功能性鍍膜，可以通過發展迅速的物理氣相沉積(physical?vapor?deposition，PVD)工藝獲得，傳統的真空鍍膜系統包括一進行濺鍍反應的真空鍍膜室，真空鍍膜室內具有固定設置的掛具或卡持裝置用以懸掛或卡持被鍍工件。然而電子產品的外觀形狀日趨復雜，以及對光學元件鍍膜要求亦日益提高。因此，對如何獲得均勻的鍍膜提出了更多的課題；另外，由于掛具或卡持裝置固定設置于的真空鍍膜室內，每次進行鍍膜時，都需要打開真空鍍膜室裝載待鍍膜工件，鍍膜完成后再取下已鍍膜的工件，再鍍膜時，再裝載待鍍膜工件，如此，兩次鍍膜之間需要占用大量的等待時間，生產效率低下。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種可使工件表面鍍膜更為均勻、并可提高生產效率的真空鍍膜系統。

一種真空鍍膜系統，包括一個真空鍍膜室、一個傳送裝置、至少一個承載支架。所述真空鍍膜室設有一個頂壁、一個底壁及兩個連接所述頂壁及底壁的相對的側壁。所述頂壁上安裝有一個第一驅動裝置。所述兩個側壁分別設有一個進料閘門及一個出料閘門。所述傳送裝置固定安裝于真空鍍膜室外，其設有一個傳送軌道及設置于傳送軌道上的升降臂。所述傳送軌道自所述進料閘門至所述出料閘門貫穿所述真空鍍膜室。所述升降臂用于卡持所述承載支架。所述承載支架包括一個公轉軸、與所述公轉軸樞接的至少一個用于承放待鍍膜工件的承載框。所述升降臂將承載支架傳送至所述第一驅動裝置下方，并將所述承載支架連接至所述第一驅動裝置，所述第一驅動裝置帶動所述承載支架轉動以使所述承載框繞所述公轉軸轉動。

本發明提供的真空鍍膜系統在進行鍍膜反應時，所述第一驅動裝置與所述承載支架連接并驅動所述承載支架轉動，從而使放置在所述承載框上的待鍍膜工件表面鍍膜更加均勻。另外，承載支架通過傳送裝置送入真空鍍膜室，可以實現連續鍍膜，提高鍍膜效率。

附圖說明

圖1為本發明提供的真空鍍膜系統的主視圖。

圖2為圖1的真空鍍膜系統的俯視圖。

圖3為圖1的真空鍍膜系統的承載支架的主視圖。

圖4為圖2所示的承載支架的俯視圖。

主要元件符號說明

真空鍍膜系統????????????100

真空鍍膜室??????????????10

頂壁????????????????????101

進氣口??????????????????1011

底壁????????????????????102

出氣????????????????????1021

側壁????????????????????103、104

進料閘門????????????????1031

出料閘門????????????????1041

靶材承放部??????????????105

傳送裝置????????????????20

傳送軌道????????????????201

升降臂??????????????????202

承載支架????????????????30

公轉軸??????????????????301

對接部??????????????????3011

卡持部??????????????????3012

上定位件????????????????3013

下定位件????????????????3014

承載框??????????????????302

水平邊框????????????????3021

垂直邊框????????????????3022

樞接通孔????????????????3023

自轉軸??????????????????303

承載部??????????????????3031

轉動棘輪????????????????3032

第一驅動裝置????????????40

第一馬達????????????????401

驅動部??????????????????402

靶材????????????????????50