[發明專利]光學元件、成像光學系統和成像設備有效
| 申請號: | 201010260665.8 | 申請日: | 2010-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN102004369A | 公開(公告)日: | 2011-04-06 |
| 發明(設計)人: | 山野裕貴 | 申請(專利權)人: | 索尼公司 |
| 主分類號: | G03B11/04 | 分類號: | G03B11/04;G02B5/22;G02B27/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 郭定輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 元件 成像 光學系統 設備 | ||
1.一種光學元件,包括:
基底材料,由具有紅外吸收作用的膜狀樹脂材料形成;以及
多層式膜,其調整光譜特性,并形成在基底材料的物側表面和像側表面上,
將所述光學元件布置在成像光學系統的光路上,并且所述光學元件具有這種特性:物側表面和像側表面上的其光譜透射率以及其光譜反射率滿足如下條件(1)到(4)
(1)0.75<TIRCF(600)/TIRCF(540)<0.95
(2)615<λLT50%<670
(3)|TIRCF(700)/TIRCF(540)|<0.05
(4)680≤λLR50%,
其中
TIRCF(600)是具有600nm波長的光的光譜透射率,
TIRCF(540)是具有540nm波長的光的光譜透射率,
λLT50%是在50%光譜透射率處的近紅外光的波長,
TIRCF(700)是具有700nm波長的光的光譜透射率,以及
λLR50%是在50%光譜反射率處的近紅外光的波長,
其中波長的單位是nm。
2.根據權利要求1所述的光學元件,其中將所述光學元件布置在成像器件與成像光學系統中最靠近圖像布置的透鏡之間。
3.根據權利要求1所述的光學元件,其中物側表面和像側表面上的光譜反射率滿足如下條件(5)
(5)λLR50%[A]≥λLR50%[B],
其中λLR50%[A]是物側表面上50%光譜反射率處的近紅外光的波長,而λLR50%[B]是像側表面上50%光譜反射率處的近紅外光的波長。
4.根據權利要求1所述的光學元件,其中在基底材料和基底材料的兩個表面上形成的多層式膜的總厚度為120μm或更小。
5.根據權利要求1所述的光學元件,其中所述基底材料由聚烯樹脂構成。
6.根據權利要求1所述的光學元件,其中所述基底材料包含至少一種有機色素作為具有紅外吸收作用的著色劑。
7.一種成像光學系統,包括:
至少一個透鏡或透鏡元件;
光學元件;以及
成像器件,
該至少一個透鏡或透鏡元件、光學元件和成像器件布置在光路上,
所述光學元件包括
基底材料,由具有紅外吸收作用的膜狀樹脂材料形成,以及
多層式膜,其調整光譜特性,并且形成在基底材料的物側表面和像側表面上,以及
所述光學元件具有這種特性:在物側表面和像側表面上的其光譜透射率以及其光譜反射率滿足如下條件(1)到(4)
(1)0.75<TIRCF(600)/TIRCF(540)<0.95
(2)615<λLT50%<670
(3)|TIRCF(700)/TIRCF(540)|<0.05
(4)680≤λLR50%,
其中
TIRCF(600)是具有600nm波長的光的光譜透射率,
TIRCF(540)是具有540nm波長的光的光譜透射率,
λLT50%是在50%光譜透射率處的近紅外光的波長,
TIRCF(700)是具有700nm波長的光的光譜透射率,以及
λLR50%是在50%光譜反射率處的近紅外光的波長,
其中波長的單位是nm。
8.一種成像設備,包括:
成像光學系統,包括
至少一個透鏡或透鏡元件;
光學元件;以及
成像器件,
該至少一個透鏡或透鏡元件、光學元件和成像器件布置在光路上,
所述光學元件包括
基底材料,由具有紅外吸收作用的膜狀樹脂材料形成,以及
多層式膜,其調整光譜特性,并且形成在基底材料的物側表面和像側表面上,以及
所述光學元件具有這種特性:在物側表面和像側表面上的其光譜透射率以及其光譜反射率滿足如下條件(1)到(4)
(1)0.75<TIRCF(600)/TIRCF(540)<0.95
(2)615<λLT50%<670
(3)|TIRCF(700)/TIRCF(540)|<0.05
(4)680≤λLR50%,
其中
TIRCF(600)是具有600nm波長的光的光譜透射率,
TIRCF(540)是具有540nm波長的光的光譜透射率,
λLT50%是在50%光譜透射率處的近紅外光的波長,
TIRCF(700)是具有700nm波長的光的光譜透射率,以及
λLR50%是在50%光譜反射率處的近紅外光的波長,
其中波長的單位是nm。
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