[發(fā)明專利]光源裝置以及框體的制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010258141.5
• 申請日: 2010-08-18
• 公開（公告）號: CN101995623A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 佐藤行雄;矢部實透;吉原徹;中川康幸;黑川博志
• 申請（專利權(quán)）人: 三菱電機(jī)株式會社
• 主分類號: G02B6/42
• 分類號: G02B6/42;G03F7/20;F21V17/00
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 黃綸偉;馬建軍

1.一種光源裝置，其特征在于，該光源裝置具有：

光源，其出射光；

光學(xué)部件，其對從所述光源出射的光進(jìn)行處理；以及

框體，其收納所述光學(xué)部件或者安裝所述光學(xué)部件，

所述框體是通過切削不含硫成分的材料而形成的，所述材料露出于表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源裝置，其特征在于，

所述不含硫成分的材料是黃銅、鋁、鈦、陶瓷或樹脂。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源裝置，其特征在于，

所述光源裝置還具有保持所述光學(xué)部件的保持部，

所述光學(xué)部件和所述保持部中所照射的光的平均能量密度為100W/cm²以上的部分由不含硫成分的材料形成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源裝置，其特征在于，

使用不含硫成分的切削油對所述框體進(jìn)行切削加工。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源裝置，其特征在于，

在利用氯系或溴系溶劑清洗后，利用丙酮、乙醇溶液或純水清洗所述框體。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源裝置，其特征在于，

附著于所述框體的硫酸根離子量為2.3mg/cm²以下，銨離子量為4.7mg/cm²以下。

7.一種光源裝置，其特征在于，該光源裝置具有：

光源，其出射光；

光學(xué)部件，其對從所述光源出射的光進(jìn)行處理；以及

框體，其收納所述光學(xué)部件或者安裝所述光學(xué)部件，

所述框體是通過使用不含硫成分的材料的模鑄而形成的，

使所述框體從所述壓鑄中使用的模具脫模的脫模劑不含硫成分。

8.一種光源裝置，其特征在于，該光源裝置具有：

光源，其出射光；

平行光化部，其使從所述光源出射的光成為平行光；

會聚部，其對所述平行光進(jìn)行會聚；

光纖，其入射所述會聚后的光，并傳送所入射的光；以及

鏡筒，其收納所述會聚部，并且安裝所述光纖，

所述鏡筒是通過切削不含硫成分的材料而形成的，所述材料露出于表面。

9.根據(jù)權(quán)利要求1、2、7、8中的任意一項所述的光源裝置，其特征在于，

從所述光源出射的光的波長位于400nm～780nm的區(qū)域。

10.一種框體的制造方法，所述框體收納對從光源出射的光進(jìn)行處理的光學(xué)部件或者安裝所述光學(xué)部件，其特征在于，所述框體的制造方法具有以下步驟：

從不含硫成分的材料切出所述框體的步驟；以及

在利用氯系或溴系溶劑清洗所切出的所述框體后，利用丙酮、乙醇溶液或純水清洗的步驟。

11.一種框體的制造方法，所述框體收納對從光源出射的光進(jìn)行處理的光學(xué)部件或者安裝所述光學(xué)部件，其特征在于，所述框體的制造方法具有以下步驟：

通過使用不含硫成分的材料的模鑄來形成所述框體的步驟；以及

通過不含硫成分的脫模劑，使所述框體從所述模鑄中使用的模具脫模的步驟。