[發明專利]電磁輻射測量裝置

無效

• 申請號: 201010257421.4
• 申請日: 2010-08-19
• 公開（公告）號: CN102375094A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發明（設計）人: 王軍偉;陳俊宏
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G01R29/08
• 分類號: G01R29/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種測量裝置，特別涉及一種電磁輻射測量裝置。

背景技術

按照各國電磁兼容(Electro-Magnetic?Compatibility，EMC)指令要求，電子產品在進入該國市場銷售前需要進行電磁干擾(Electromagnetic?Interference，EMI)測試，只有符合該國EMC標準的產品才能在該國市場出售。因此，在產品研發階段進行EMI輻射的抑制就顯得尤為重要。當產品EMI輻射超標時，需要找出輻射超標的EMI輻射源以對其進行抑制，傳統的電磁輻射測量裝置在測量過程中可能會受到非產品本身發出的外界磁場的干擾，而造成EMI輻射源定位的不準確，給輻射源的抑制帶來困難。

發明內容

鑒于以上內容，有必要提供一種可以準確定位輻射源的電磁輻射測量裝置。

一種電磁輻射測量裝置，包括一測量本體及一探棒設備，所述探棒設備包括一金屬屏蔽罩、一設置于所述金屬屏蔽罩內部的探頭及一電纜，連接所述探頭的電纜穿過所述金屬屏蔽罩的底部后連接至所述測量本體上。

相較現有技術，所述電磁輻射測量裝置通過所述金屬屏蔽罩來屏蔽金屬屏蔽罩外部電磁輻射的干擾，從而準確檢測電磁輻射超標的電磁輻射源。

附圖說明

下面參照附圖結合具體實施方式對本發明作進一步的說明。

圖1是本發明電磁輻射測量裝置的較佳實施方式的剖面示意圖。

圖2是圖1中電磁輻射測量裝置的探棒設備的分解示意圖。

圖3是圖2中金屬屏蔽罩底部的剖面圖。

圖4是圖2中同軸電纜的剖面圖。

主要元件符號說明

電磁輻射測量裝置????100

測量本體????????????110

探棒設備????????????120

金屬屏蔽罩??????????10

探頭????????????????20

母頭SMA連接器???????30

第一固定片??????????50

公頭SMA連接器???????40

手持柄??????????????66

第二固定片??????????60

同軸電纜????????????70

螺絲????????????????80

螺母????????????????90

中心孔??????????????112

導電體??????????????113

通孔????????????????12、54、64、661

定位孔??????????????52

固定孔??????????????62

具體實施方式

請參考圖1至圖4，本發明電磁輻射測量裝置100的較佳實施方式包括一測量本體110及一探棒設備120。所述測量本體110為一現有測量儀器，如一頻譜儀，其具體工作原理在此不再贅述。所述探棒設備120包括一金屬屏蔽罩10、一探頭20、一連接所述探頭20的母頭SMA(Sub-Miniature-A)連接器30、一第一固定片50、一設置在所述第一固定片50上的公頭SMA連接器40、一手持柄66、一固定所述手持柄66的第二固定片60、一同軸電纜70、兩螺絲80及兩螺母90。

所述金屬屏蔽罩10的底部11的中心位置設置一中心孔112，一環形導電體113環繞所述中心孔112設置在所述金屬屏蔽罩10的底部11，所述中心孔112的兩邊分別設置一通孔12。所述第一固定片50的中間位置設置一通孔54，所述通孔54的兩邊分別設置一定位孔52。所述第二固定片60的中間位置設置一通孔64，所述通孔64的兩邊分別設置一固定孔62。所述固定孔62與所述金屬屏蔽罩10底部11的通孔12及所述第一固定片50的定位孔52相對應。所述手持柄66中心設置一通孔661，所述通孔661與所述第二固定片60的通孔64、所述金屬屏蔽罩10底部11的中心孔112及所述第一固定片50的通孔54相對應。在本實施方式中，所述金屬屏蔽罩10的內壁貼有吸波材料。所述導電體113為普通導線、導電海綿、導電布、導電夾、導電膠、銅箔或鋁箔中的任何一種。

所述同軸電纜70由外至內依次包括一保護層71、一屏蔽層72、一絕緣層73及一線芯74。