[發明專利]基板清洗機臺與基板清洗方法

有效

• 申請號: 201010257244.X
• 申請日: 2010-08-12
• 公開（公告）號: CN101969022A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: 賴志明;邵明良
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/02
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 郭蔚

【技術領域】

本發明是有關于一種清洗機臺與清洗方法，且特別是有關于一種基板清洗機臺與基板清洗方法。

【背景技術】

由于平面顯示技術的突飛猛進，其應用逐漸從計算機用屏幕延伸至家用電視。就薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)制程而言，清洗步驟經常連接于鍍膜、光刻及蝕刻等步驟之前、中、后等時機，用以維持顯示器基板在生產過程中的表面潔凈度。

基板表面的清洗方式包括化學性及物理性的清洗方式。舉例而言，利用轉動中的毛刷輪表面的纖毛來刷洗(scrub)基板表面以達到清洗目的者屬于物理性的清洗方式。而目前用于清洗基板表面的濕式清洗設備多是先利用純水對基板表面進行噴洗后，再使用接觸式拋洗對基板表面清洗，之后再利用風刀氣體之類的方式將基板表面上的殘留液體吹干。

然而采用上述傳統的清洗方式對已形成有膜層的基板表面上進行清洗的潔凈效果以現有產品在生產上的不良率約占1％~1.5％。也就是說，采用上述的清洗方式對基板進行清洗制程時容易在清洗的過程中對基板上已形成的膜層造成損傷，進而造成產品的不良率的增加。

【發明內容】

本發明提供一種基板清洗機臺，其可在保護基板表面不受損傷的情況下，仍可有效清除基板上的微粒與臟污而達到較佳的清洗效果。

本發明另提供一種基板清洗方法，其適用于上述的機臺并具有上述的優點。

本發明提出一種基板清洗機臺，其包括第一支持件、第二支持件、連續織物以及噴嘴。第一支持件與第二支持件分別設置在基板的行進路徑上，且基板適于沿行進路徑依序通過第一支持件與第二支持件上方。連續織物適于沿著進給方向前進，且進給方向與基板的移動方向相反。第一支持件以及第二支持件承靠連續織物，以分別在行進路徑上形成第一清潔區以及第二清潔區。噴嘴適于噴灑清洗液于第一清潔區的連續織物上。

在本發明的一實施例中，上述的清洗液包括有機溶劑。

在本發明的一實施例中，上述的第一支持件或第二支持件包括滾柱。

在本發明的一實施例中，上述的連續織物包括無塵布。

在本發明的一實施例中，上述的基板清洗機臺更包括第一靜電消除裝置，其設置于行進路徑上且位于第一支持件之前。在本發明的一實施例中，上述的基板清洗機臺更包括接觸式除塵裝置，其設置于行進路徑上且位于第一靜電消除裝置與第一支持件之間。

在本發明的一實施例中，上述的基板清洗機臺更包括清潔黏輪(Duster?Roller)，其設置于行進路徑上，且位于第二支持件之后。在本發明的一實施例中，上述的基板清洗機臺更包括第二靜電消除裝置，設置于行進路徑上且位于清潔黏輪之后。

在本發明的一實施例中，上述的基板清洗機臺更包括取料裝置，其設置于行進路徑的起始位置，用以獲取基板。

本發明另提出一種基板清洗方法，其適用于基板清洗機臺，以清洗基板，其中基板清洗機臺包括設置在基板的行進路徑上的第一支持件、第二支持件以及連續織物。連續織物被第一支持件以及第二支持件承靠，以分別在行進路徑上形成第一清潔區以及第二清潔區。基板清洗方法包括下列步驟。首先，噴灑清洗液于第一清潔區的連續織物上。然后，使基板沿行進路徑依序通過第一清潔區與第二清潔區，同時使連續織物沿著一進給方向前進，其中進給方向與基板的移動方向相反。

在本發明的一實施例中，上述的方法更包括清潔黏輪步驟于行進路徑上，在基板通過第二清潔區清洗之后，通過清潔黏輪步驟來清潔基板。

在本發明的一實施例中，上述的方法更包括第二靜電消除步驟于行進路徑上，在基板進入第一清潔區清洗之前，對基板進行第二靜電消除步驟。

在本發明的一實施例中，上述的方法更包括第一靜電消除步驟于行進路徑上，在基板進入第一清潔區清洗之前，對基板進行第一靜電消除步驟。

在本發明的一實施例中，上述的方法更包括接觸式除塵步驟于行進路徑上，在基板進行第一靜電消除步驟之后并且在基板進入第一清潔區清洗之前，對基板進行接觸式除塵步驟。

基于上述，本發明的基板清洗機臺通過使基板依序通過第一清潔區及第二清潔區，因此位于第一清潔區上的連續織物與位于第二清潔區上的連續織物便可依序對基板的表面進行清洗。其中，噴嘴會噴灑清洗液于第一清潔區的連續織物上，因此基板在依序通過第一清潔區及第二清潔區之后可在保護基板表面不受損傷的情況下，而仍可有效清除基板上的微粒與臟污而達到較佳的除塵效果。尤其應用在清洗具有裸露電極或特殊膜層的基板上更是具有較佳的清洗及除塵表現。